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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

18721247059

KLA/科磊
薄膜測(cè)量系統(tǒng)
微組裝系統(tǒng)
Deposition沉積系統(tǒng)
Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng)
測(cè)量?jī)x器
ECOPIA/韓國(guó)
Etching/等離子蝕刻系統(tǒng)
Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)
美國(guó)杜邦Dupont
Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng)
Probe station/探針臺(tái)
紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
快速退火爐
生命科學(xué)
PIE scientific/美國(guó)
JFP microtechnic/法國(guó)
OAI/美國(guó)
Unitemp/德國(guó)
NanoMagnetics/英國(guó)
Reflow Oven /回流焊
  • 高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    ECOPIA公司的HMS系列高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀,霍爾效應(yīng)系統(tǒng),霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)主要由恒電流源、范德堡法則終端轉(zhuǎn)換器、低溫(77K)測(cè)量系統(tǒng)及磁場(chǎng)強(qiáng)度輸入系統(tǒng)組成...

    型號(hào): HMS-3300 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:10:44 對(duì)比
    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀高溫霍爾效應(yīng)測(cè)試儀
  • 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀,霍爾效應(yīng)系統(tǒng)主要用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)、導(dǎo)電類(lèi)型等重要參數(shù),而這些參數(shù)是了解半導(dǎo)體材料電學(xué)特性必須預(yù)先掌控的,...

    型號(hào): HMS-3000 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:10:03 對(duì)比
    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀霍爾效應(yīng)測(cè)試儀霍爾效應(yīng)系統(tǒng)
  • 薄膜沉積系統(tǒng)

    Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系...

    型號(hào): Trion Ori... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:09:19 對(duì)比
    薄膜沉積薄膜沉積系統(tǒng)
  • 等離子刻蝕ICP

    等離子刻蝕ICP基片通過(guò)預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸,從而提高了用戶(hù)安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而隔絕外部濕氣,防...

    型號(hào): Minilock-... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:08:53 對(duì)比
    等離子蝕刻等離子蝕刻系統(tǒng)
  • 紫外掩膜曝光機(jī)

    OAI 200型光刻機(jī)和紫外掩膜曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟(jì)高效的高性能工具,采用行業(yè)驗(yàn)證的模塊化組件進(jìn)行設(shè)計(jì),使OAI成為MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的ling ...

    型號(hào): Model 200 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:07:32 對(duì)比
    曝光機(jī)OAI紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)光刻機(jī)紫外掩膜曝光系統(tǒng)
  • 半自動(dòng)引線鍵合機(jī),焊線機(jī) (Wire Bonder)

    全新設(shè)計(jì)的WB-200型半自動(dòng)細(xì)絲鍵合機(jī)非常適合實(shí)驗(yàn)室研發(fā),產(chǎn)品原型試產(chǎn),產(chǎn)品評(píng)估,產(chǎn)品返修等在有限預(yù)算下,同時(shí)必須要保證高質(zhì)量鍵合的用戶(hù)。

    型號(hào): WB-200 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:06:28 對(duì)比
    鍵合機(jī)半自動(dòng)鍵合機(jī)Wire Bonder引線鍵合機(jī)
  • KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀

    KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀,方塊電阻測(cè)試儀可對(duì)金屬層厚度、薄膜電阻、薄膜電阻率、薄膜電導(dǎo)和薄膜電導(dǎo)率進(jìn)行測(cè)繪。R54是方塊電阻測(cè)量...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:05:47 對(duì)比
    R50方塊電阻測(cè)試儀R50系列四探針電阻測(cè)試儀電阻測(cè)試儀方塊電阻測(cè)試四探針電阻測(cè)試
  • KLA Tencor® P-7探針式輪廓儀

    KLA Tencor® P-7探針式輪廓儀為生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)節(jié)提供了從幾納米到一毫米的臺(tái)階高度測(cè)量功能。該系統(tǒng)支持對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行二維...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:05:03 對(duì)比
    kla探針式輪廓儀kla p-7p-7臺(tái)階儀
  • KLA iMicro納米壓痕儀

    KLA iMicro納米壓痕儀可輕松測(cè)量硬質(zhì)涂層、薄膜和小尺寸材料等。其準(zhǔn)確、靈活,并且用戶(hù)友好,可以提供壓痕、硬度測(cè)試、劃痕和納米級(jí)萬(wàn)能試驗(yàn)等多種納米力學(xué)測(cè)試...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:04:40 對(duì)比
    KLA iMicro納米壓痕儀納米壓痕儀納米劃痕儀納米劃痕測(cè)試納米壓痕測(cè)量
  • KLA Candela® 8720表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

    KLA Candela® 8720表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)先進(jìn)的集成式表面和光致發(fā)光(PL)缺陷檢測(cè)系統(tǒng)可以捕獲各種關(guān)鍵襯底和外延缺陷。采用統(tǒng)計(jì)制程控制(SP...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:04:22 對(duì)比
    KLA Candela® 8720表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)晶圓表面缺陷檢測(cè)晶圓光學(xué)檢測(cè)晶圓檢測(cè)
  • KLA Candela® 8520表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

    KLA Candela® 8520表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)第二代集成式光致發(fā)光和表面檢測(cè)系統(tǒng),設(shè)計(jì)用于對(duì)碳化硅和氮化鎵襯底上的外延缺陷進(jìn)行高級(jí)表征。采用統(tǒng)計(jì)制...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:04:12 對(duì)比
    KLACandela® 8520表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)晶圓表面檢測(cè)晶圓缺陷光學(xué)檢測(cè)晶圓光學(xué)檢測(cè)
  • KLA Candela® 8420表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)

    KLA Candela® 8420表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)它使用多通道檢測(cè)和基于規(guī)則的缺陷分類(lèi),對(duì)不透明、半透明和透明晶圓(如砷化鎵、磷化銦、鉭酸鋰、鈮酸鋰、...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:03:58 對(duì)比
    KLA Candela® 8420表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)晶圓缺陷檢測(cè)半導(dǎo)體缺陷檢測(cè)晶圓光學(xué)檢測(cè)
  • 薄膜厚度測(cè)量?jī)x

    KLA Filmetrics F50薄膜厚度測(cè)量?jī)x采用自動(dòng)化R-Theta平臺(tái),支持標(biāo)準(zhǔn)和定制化樣品夾盤(pán),最大樣品直徑達(dá)450毫米,能高效測(cè)繪薄膜厚度。該設(shè)備適...

    型號(hào): KLA Filme... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/5/9 17:03:36 對(duì)比
    KLA Filmetrics F50薄膜厚度測(cè)量?jī)xFilmetrics F50薄膜厚度測(cè)量?jī)xFilmetrics F50薄膜厚度測(cè)量?jī)x白光干涉測(cè)厚儀
  • 薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

    薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng):在硅片等基板上附膜時(shí),由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,產(chǎn)生應(yīng)力,進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝...

    型號(hào): Toho FLX-... 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/5/9 17:03:07 對(duì)比
    薄膜測(cè)試薄膜應(yīng)力日本薄膜應(yīng)力薄膜應(yīng)力測(cè)試薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)
  • KLA Alpha-Step®D-500探針式輪廓儀

    KLA Alpha-Step®D-500探針式輪廓儀能夠測(cè)量幾納米到1200微米高的2D臺(tái)階。D-500也支持在研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)節(jié)中對(duì)粗糙度、彎曲度和應(yīng)力...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/3/17 10:32:02 對(duì)比
    Alpha-Step®D-500KLA-Tencor探針式輪廓儀臺(tái)階儀接觸式輪廓儀
  • KLA Tencor® P-17探針式輪廓儀

    KLA Tencor® P-17探針式輪廓儀為生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)節(jié)提供從幾納米到一毫米的臺(tái)階高度測(cè)量功能。該系統(tǒng)支持對(duì)臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行二維...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/3/17 10:30:38 對(duì)比
    KLAP-17探針式輪廓儀臺(tái)階儀粗糙度測(cè)量
  • KLA Alpha-Step® D-600探針式輪廓儀

    半導(dǎo)體薄膜生長(zhǎng)表面檢測(cè)KLA Alpha-Step® D-600探針式輪廓儀能夠測(cè)量從幾納米到 1200微米的2D和3D臺(tái)階高度。D-600 還支持2...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/3/17 10:27:03 對(duì)比
    科磊探針式輪廓儀Alpha-Step® D-600kla半導(dǎo)體表面測(cè)量
  • KLA Filmetrics F40薄膜厚度測(cè)量?jī)x

    KLA Filmetrics F40薄膜厚度測(cè)量?jī)x通過(guò)將顯微鏡轉(zhuǎn)變?yōu)楸∧y(cè)量工具,實(shí)現(xiàn)小至1微米光斑的厚度和折射率測(cè)量。該設(shè)備配備集成彩色攝像機(jī),可在1秒內(nèi)完成...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/3/10 7:59:43 對(duì)比
    KLA Filmetrics F40 薄膜厚度測(cè)量?jī)xFilmetrics F40薄膜厚度測(cè)量?jī)x薄膜厚度測(cè)量?jī)xFilmetrics F40白光干涉測(cè)厚儀
  • KLA Filmetrics F30薄膜厚度測(cè)量?jī)x

    KLA Filmetrics F30薄膜厚度測(cè)量?jī)x通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)控沉積過(guò)程,提供高精度、快速且非侵入式的測(cè)量解決方案,適用于多種半導(dǎo)體和電介質(zhì)材料。其主要特點(diǎn)包括提...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/3/10 7:53:14 對(duì)比
    KLA Filmetrics F30薄膜厚度測(cè)量?jī)x薄膜厚度測(cè)量?jī)x白光干涉測(cè)厚儀Filmetrics F30薄膜厚度測(cè)量?jī)x薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
  • KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測(cè)量?jī)x

    KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測(cè)量?jī)x系列,涵蓋近紅外光波長(zhǎng)范圍980 nm、1310 nm及1550 nm,能夠測(cè)量從15納米至3毫米的薄膜厚...

    型號(hào): 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥50000更新時(shí)間:2025/3/10 7:42:31 對(duì)比
    KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測(cè)量?jī)x薄膜厚度測(cè)量?jī)xF3-sX薄膜厚度測(cè)量?jī)x白光干涉測(cè)厚儀Filmetrics F3-sX

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