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Model 659 紫外線光強與能量計由OAI設計與制造。適用于所有晶圓步進光刻機的 659 型紫外線光強與能量計 。

Model 656 紫外線光強與能量計由OAI設計與制造。適用于所有接觸式 / 近接式掩模對準器和泛光曝光系統(tǒng)。

Model 308 紫外線光度計由OAI設計與制造OAI 308型紫外線光度計是一款可靠的精密儀器，用于測量紫外線強度。308型適用于多種行業(yè)和應用場景，專為任...

太陽能電池高性能測試夾具由OAI設計與制造用于各類太陽能電池的可靠性測試，獨立式、多匯流條式、雙面式、無匯流條式以及切片電池測試夾具等。

太陽能功率計由OAI設計與制造連續(xù)波太陽能模擬器是用于模擬太陽光，以便對太陽能電池等相關設備進行性能測試的儀器。

CPV 聚光太陽模擬器由OAI設計與制造CPV（Concentrated Photovoltaic）即聚光光伏技術，它利用光學元件將太陽光集中到面積較小的光伏電...

集成式 IV光伏測試系統(tǒng)由OAI設計與制造它通過提供優(yōu)化的脈沖寬度和電壓掃描速率，以匹配任何類型太陽能電池的高電容和較慢的介電響應速度。

AML 原位對準晶圓鍵合機由OAI設計與制造晶圓鍵合技術已在微系統(tǒng)技術（MST）、微機電系統(tǒng)（MEMS）、III-V 族（半導體）、集成電路（ICs）及光電子器...

AAA 標準太陽模擬器由OAI設計與制造該太陽能模擬器采用*的均勻光束光學系統(tǒng)，包括專有鍍膜反射鏡、濾光片和光束均勻性積分器，能夠提供高精度、準直的光束，且工作...

Model 6020 全自動掩模曝光機由OAI設計與制造用于重新分布層（RDL）面板級封裝和玻璃面板曝光的大尺寸基板生產(chǎn)型掩模對準器或泛光曝光系統(tǒng)。

Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機由OAI設計與制造可用于半導體、微機電系統(tǒng)（MEMS）、傳感器、優(yōu)良晶圓級封裝（WLP）、化合物半導體、發(fā)光二極管（LED...

Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機由OAI設計與制造2000SM型可顯著減少因常規(guī)晶圓操作而產(chǎn)生的顆粒污染。在OAI 2000SM型和2000FL型系...

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造在半導體行業(yè)，OAI 擁有 40 余年產(chǎn)品研發(fā)和制造經(jīng)驗，以專為研發(fā)及半自動生產(chǎn)設計的光刻設備...

Model 212 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造一種用于大面積基板的低成本研發(fā)工具。這是一款多功能工具，既能適配較小尺寸的基板和掩模，也能輕松升級以處理更大...

Model 200 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造OAI 系統(tǒng)能夠處理各種常規(guī)形狀和不規(guī)則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內(nèi)可提供均勻的紫外線曝光。

WB 100-e焊線機是一款手動與半自動配置型焊線機，無振動以確保高精度。電動 Z 軸 / Y 軸回退功能，支持楔焊與球焊。

WB 100-e 手動及半自動型焊線機 是一款手動與半自動配置型焊線機，無振動以確保高精度。

PIC - 工藝檢測相機由JFP microtechnic設計，適用于對精度與圖像質(zhì)量有要求的應用場景

PP6 返工與芯片鍵合工作站專為精準芯片拆除、鍵合區(qū)域規(guī)劃、焊球移除及局部真空清潔設計，具備將精密器件精確放置到基板或深封裝結(jié)構(gòu)的能力。

GG-Gas Gun 氣體噴射機工作站工作站可滿足微電子領域?qū)Χ喙δ芎附印⒐簿Ш附蛹盎亓骱傅男枨蟆?