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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 12英寸特種金屬膜層刻蝕設(shè)備

    LMEC-300™ 是魯汶儀器針對特種金屬膜層刻蝕而推出的 12 英寸集成設(shè)備，應(yīng)用于新興存儲(chǔ)器件的制備。此類器件的核心功能單元含有成分復(fù)雜的金屬疊...
    型號： LMEC-300 所在地：徐州市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 21:11:35 對比

  • 單片濕法刻蝕機(jī)

    滿足半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
    型號： KS-S300-E 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:25:30 對比

  • 去膠機(jī)

    用于封裝領(lǐng)域中的光阻去除工藝，掩膜版清洗，OLED 領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
    型號： KS-S150-6... 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:23:35 對比

  • 單片濕法去膠機(jī)

    用于先進(jìn)封裝工藝過程中的晶圓去膠制程和金屬剝離制程。設(shè)備可搭載槽式浸泡單元、高壓噴淋或二流體噴淋去膠單元、清洗及干燥單元等工藝模塊，滿足各種品牌型號、各種厚度的...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:21:56 對比

  • 去膠機(jī)

    適用于半導(dǎo)體及LED芯片制造領(lǐng)域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
    型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:19:56 對比

  • 單片清洗機(jī)

    用于晶圓級封裝及OLED中的清洗工藝，配合清洗化學(xué)藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機(jī)物...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:17:42 對比

  • 全自動(dòng)SCRUBBER清洗機(jī)

    清洗機(jī)可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除，實(shí)現(xiàn)高效去除。通過大量仿真與工藝試驗(yàn)相結(jié)合，...
    型號： KS-CF300/... 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:13:38 對比

  • 12寸 集束型涂膠顯影機(jī)

    KS-C300涂膠顯影機(jī)可用于封裝、 MEMS、OLED等領(lǐng)域的涂覆顯影制程，每小時(shí)可加工180片晶片，同時(shí)產(chǎn)品可兼容不同材質(zhì)的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
    型號： KS-C300 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:11:10 對比

  • 12寸噴霧式涂膠機(jī)

    KS-S300全自動(dòng)噴霧式涂膠機(jī)通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣，避免溝槽堆積...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:09:27 對比

  • 涂膠顯影半自動(dòng)機(jī)臺(tái)

    KS-M300半自動(dòng)機(jī)臺(tái)可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗(yàn)和生產(chǎn)線。占地面積小，操作時(shí)...
    型號： KS-M300 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:07:40 對比

  • 星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)

    KS-S150星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導(dǎo)體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{(lán)寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓，產(chǎn)品涉及多個(gè)應(yīng)用...
    型號： KS-S150 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:06:06 對比

  • 涂膠顯影機(jī)

    KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機(jī)，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點(diǎn)及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
    型號： KS-FT200/... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 20:00:21 對比

  • 原子層沉積

    市場和應(yīng)用用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態(tài)...
    型號： 捷尼賽思 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 19:55:57 對比

  • 超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜

    超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜Beneq C2R 是我們集群兼容設(shè)備系列的空間 ALD 成員。Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工...
    型號： 貝內(nèi)克 C2R 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 19:51:59 對比

  • 原子層沉積研究設(shè)備

    TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個(gè) Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...
    型號： TFS 500 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 19:47:54 對比

  • 原子層沉積研究設(shè)備

    Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺(tái)，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設(shè)計(jì)，可最大限度地減少多用戶...
    型號： TFS 200 所在地：芬蘭 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 19:43:19 對比

  • 原子層沉積

    Beneq Transform在其多功能性和適應(yīng)性方面建立了全新的ALD集群工具產(chǎn)品，以滿足廣泛的應(yīng)用和細(xì)分市場的需求。Beneq Transform 配置多個(gè)...
    型號： Beneq 轉(zhuǎn)換 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 19:33:01 對比

  • ALD

    Beneq Prodigy™ 是 VCSEL、LED 和 MEMS 制造商和代工廠的理想制造解決方案，他們希望通過經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的獨(dú)立 ALD 批處理工具...
    型號： Beneq Pro... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 19:28:48 對比

  • ALD

    Beneq Transform 300 是一個(gè)高度通用的制造平臺(tái)，面向致力于 CIS、電源、Micro-OLED/LED、先進(jìn)封裝和其他 MtM 應(yīng)用的 IDM...
    型號： Beneq Tra... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 19:25:29 對比

  • 碳化硅沉積系統(tǒng)

    碳化硅沉積系統(tǒng)G10-碳化硅150 mm 和 200 mm – 支持雙晶圓尺寸 – 為您的未來投資提供保障市場上最高的晶圓產(chǎn)量 / m2市場上晶圓出色的運(yùn)行過程...
    型號： G10-碳化硅 所在地：德國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 19:21:30 對比
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