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光刻膠
主要由丙二醇甲醚醋酸酯、甲酚 - 甲醛酚醛樹脂（CAS-NO.9016-83-5，濃度 21%）、6 - 重氮 - 5,6 - 二氫 - 5 - 氧代 - 1 ...
型號： RZJ-304 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2025/6/6 15:06:06 對比

光刻膠正性光刻膠
深硅刻蝕機
深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實現多工藝領域覆蓋。該機臺針對Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進...
型號： PSE V300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:59:45 對比

深硅刻蝕機 PSE V300
深硅刻蝕機
深硅刻蝕機HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結構布局，能夠減小占地，提升產能。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區(qū)部件、電源柜等組成?？蓪?..
型號： HSE系列所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:57:46 對比

HSE 深硅刻蝕機北方華創(chuàng)
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)裝置在真空狀態(tài)中對PET Film，以ITO或Metal Coating的設備, Heating, Plasma Etching, Sputt...
型號： KaRoll RT... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:04:28 對比

鍍膜卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)韓國真空/IOKOVA KaRoll RTR1C
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)是在真空狀態(tài)下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設備.
型號： Roll to R... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:02:52 對比

鍍膜濺射卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備是在真空狀態(tài)下在產品外部涂層非導電體的Coating設備，由真空內產品做著自傳，公轉,并能保持一定的膜厚度.
型號： KaRon 設備所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:01:07 對比

鍍膜
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter
型號： Batch Typ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:55:15 對比

鍍膜部件鍍膜設備 Batch Type
部件鍍膜設備
它實現高大量生產性的高真空基本Sputter - 可以生產1Batch/900EA以上的產品，以沉積及Sputter工序的*化，提升EMI莫品質 - 證明“沉積...
型號： HVD-1800 ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:53:36 對比

鍍膜 HVD-1800 Series 韓國真空/IOKOVA
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產品 Loading可以，以In-...
型號： For Half ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:34:58 對比

鍍膜 For Half Mirror Coating 韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設備
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備KaLine 8V是在真空狀態(tài)中向產品外部涂層非導體的設備,在真空內產品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.
型號： KaLine 8V 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:31:17 對比

鍍膜韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設備韓國真空/IOKOVA
薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)
薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)Automotive Lamp Reflector是為了在汽車用HEAD LAMP部分提高AL的附著性,用Plasma,AL Sputter,C...
型號： Automotiv... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:15:09 對比

CVD Automotive Lamp Reflector 韓國真空/IOKOVA
自動薄膜沉積簇工具
Kurt J. Lesker Company自動薄膜沉積簇工具 OCTOS集群工具是經過驗證的研發(fā)和中試生產系統(tǒng)，用于在多個工藝室之間進行真空傳輸。®
型號： OCTOS&tra... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:08:52 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER 自動薄膜沉積簇工具
薄膜沉積PVD設備
Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標準尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。...
型號： PVD-BATCH... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:05:28 對比

PVD-BATCH DRUM 薄膜沉積PVD設備 KURT.J.LESKER
原子層沉積ALD
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，專為入門級到中級用戶而...
型號： ALD-150LE... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:03:33 對比

ALD-150LE™原子層沉積ALD KURT.J.LESKER
原子層沉積ALD
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統(tǒng)，專為高級研發(fā) （R&D）應用而設計。創(chuàng)...
型號： ALD-150LX... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:01:42 對比

原子層沉積ALD ALD-150LX™KURT.J.LESKER
有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
概述針對有機材料沉積進行了優(yōu)化多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達 4 個熱蒸發(fā)源基板快門自動基板、掩...
型號： Super-SPE... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:58:02 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER Super-SPECTROS™ 200 有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company 的有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一...
型號： SPECTROS&... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:55:59 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER SPECTROS™ 150 有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
沉積和金屬化系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺在...
型號： Mini SPEC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:54:11 對比

沉積和金屬化系統(tǒng)KURT.J.LESKER Mini SPECTROS
濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設計特別適...
型號： NANO 36&t... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:49:21 對比

薄膜沉積 NANO 36™KURT.J.LESKER 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
電子束蒸發(fā)鍍膜設備
電子束蒸發(fā)鍍膜設備CMS系列極其強大的優(yōu)良研究工具設計用于適應特定的薄膜應用，如 GMR、CMS、半導體、納米級器件、光子學和光伏系統(tǒng)設計可以配置為真正的超高真...
型號： CMS系列所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:45:48 對比

鍍膜 KURT.J.LESKER CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設備

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