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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 有掩膜光刻機

    VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設(shè)計的最大的系統(tǒng)。它是平板...
    型號： VPG 800 /... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:56:11 對比

  • RIE等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統(tǒng)，結(jié)合了RIE平行板電極設(shè)計的優(yōu)點和直接負載的成本效益設(shè)計。
    型號： SENTECH E... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:54:22 對比

  • 精密型烤膠機

    HP6精密型烤膠機，全鋁機身，高精度控溫，獨立電路，真空吸附，數(shù)顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
    型號： HP6 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:49:55 對比

  • 低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代表了電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿技術(shù)，其最寬溫度范圍為 -150 ...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:47:43 對比

  • 程控烤膠機

    LEBO science HP100-SE程控烤膠機，7寸觸屏PLC控，硬質(zhì)陽極氧化鋁面板，優(yōu)異性能，專業(yè)服務，實驗理想之選。
    型號： HP100-SE標... 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:45:23 對比

  • 投影掃描光刻機

    SUSS MicroTec公司推出了其下一代投影掃描光刻機‐DSC300投影掃描光刻機。這種專有的掃描光刻平臺擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達到解析度（ 2 μm）的分辨...
    型號： DSC300 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:41:10 對比

  • 控溫型勻膠機

    控溫型勻膠機，性能優(yōu)秀，專業(yè)服務，高品質(zhì)材料，安全設(shè)計，桌面實驗理想選擇，為科學儀器領(lǐng)域的優(yōu)選產(chǎn)品。
    型號： IC8000-S 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:39:31 對比

  • 程控伺服勻膠機

    AC200-S-PP勻膠機，伺服驅(qū)動，PLC控制，7寸觸屏，真空可調(diào)，支持加熱，工業(yè)級應用，處理基片能力強。概述了AC200-S-PP程控伺服勻膠機的核心特性與...
    型號： AC200-S-P... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:35:09 對比

  • 程控伺服勻膠機

    AC200-SE程控伺服勻膠機，高精度伺服驅(qū)動，PLC智能控制，7寸觸屏操作，耐溶劑材質(zhì)，適用于多種工業(yè)應用。
    型號： AC200-SE標... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:27:39 對比

  • 小巧型勻膠機

    EZ4-S-PP小巧型勻膠機，小巧耐腐蝕，適用于手套箱內(nèi)，液晶顯示，程序可調(diào)，支持4寸底物，鋁合金/PP外殼可選。
    型號： EZ4-S 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:26:01 對比

  • 紫外臭氧清洗機

    這款紫外臭氧清洗機，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設(shè)計，便捷高效，質(zhì)量有保障，專業(yè)服務，是科研與實驗的理想伙伴。
    型號： UC100-SE 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:19:40 對比

  • 等離子清洗機

    LEBO science的PT500真空等離子清洗機，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點：設(shè)備小巧，操作便捷：采用一鍵式...
    型號： PT500 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:11:22 對比

  • 通用晶圓鍵合平臺

    通用晶圓鍵合平臺設(shè)計用于（混合）熱鍵合對準的200mm和300mm晶圓。 其高度模塊化的設(shè)計便于客戶以低擁有成本來實現(xiàn)極大的配置靈活性。 提供多種配置，可滿足研...
    型號： XBS300 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:09:28 對比

  • 反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE

    PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:07:34 對比

  • 晶圓鍵合機

    新型的 XBC300 Gen2 D2W/W2W晶圓鍵合機 是將所有現(xiàn)有混合鍵合工藝集成到單一設(shè)備中的平臺： W2W、集體 D2W 和順序 D2W。這是蘇斯微技術(shù)...
    型號： XBC300 Ge... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 8:05:45 對比

  • EvoVac 物理氣相沉積平臺

    EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺...
    型號： 埃沃維克 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:58:49 對比

  • 高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

    EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，專為薄膜制備與研究設(shè)計。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系...
    型號： EC400 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:56:35 對比

  • 反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE

    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計可實...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:47:48 對比

  • Amod物理氣相沉積平臺

    Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應更多的...
    型號： 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:46:15 對比

  • 掩模對準光刻機

    SUSS MicroTec為熱門化合物半導體工藝專門設(shè)計了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準光刻機?；衔锇雽w工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...
    型號： MA100/150... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 7:44:22 對比
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