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大基片清洗系統(tǒng)

NANO-MASTER的大基片清洗機(jī)(LSC)是一個(gè)獨(dú)立式的兆聲清洗系統(tǒng)，可支持高達(dá)21"OD的基片。相較SWC可通過(guò)觸摸屏實(shí)現(xiàn)更好的控制，且允許操作人員、工程師、維護(hù)人員等訪問(wèn)權(quán)限。LSC具有與SWC相同的兆聲清洗技術(shù)和化學(xué)液清洗。LabView控制和更大工藝腔體的組合，可支持更多的選配項(xiàng)，如臭氧化DIW、高壓DIW、帶保護(hù)膜的分劃板清洗和白骨化清洗。同樣支持顯影和刻蝕應(yīng)用。單晶片和Cassette機(jī)械手自動(dòng)上下片可選擇。

設(shè)備特點(diǎn)：

• 支持對(duì)角線21"、15"×15"基片和450mm圓片

• 無(wú)損兆聲清洗

• 不同速度的PVA刷子

• 化學(xué)液分布，帶回吸閥

• 旋轉(zhuǎn)甩干，帶熱氮

• 雙排放口，酸和溶劑獨(dú)立排放

• 全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制，菜單驅(qū)動(dòng)

• 觸摸屏用戶界面

• 手動(dòng)上下片，可升級(jí)為自動(dòng)

• 安全聯(lián)鎖和警報(bào)

• 小占地面積32" D×28"W

選配項(xiàng)：

應(yīng)用：

• 硅片和藍(lán)寶石片清洗

• 后CMP晶圓片清洗

• 帶晶圓框架的芯片清洗

• FSI清洗

• 顯示平板，ITO涂層顯示屏清洗

• 帶圖案及無(wú)圖案掩模板清洗

• 帶保護(hù)膜分劃版的背面清洗

• 薄膜結(jié)構(gòu)膠粘劑清洗

• 光刻膠涂覆、剝離和Piranha去膠

• 背面多晶去除

• 顯影和其它刻蝕應(yīng)用