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當(dāng)前位置：那諾中國(guó)有限公司>>產(chǎn)品展示
Parylene派瑞林鍍膜機(jī)是一款多功能設(shè)備，專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用優(yōu)化設(shè)計(jì)，配備內(nèi)置等離子體源，可用于材料表面預(yù)處理。通過(guò)Parylene涂敷后的產(chǎn)品具有高度的絕緣強(qiáng)...
Parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)，包括航天航空、半導(dǎo)體、新能源、軍工、汽車(chē)、手機(jī)、新型顯示、電子元器件、光通訊、軌道交通、3C數(shù)碼及電子等領(lǐng)...
CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...
晶圓厚度測(cè)量?jī)x MX 102-8適用于 150 - 200 mm硅片的高分辨率厚度與平整度（TTV）測(cè)量?jī)x。只需幾秒鐘即可輕松適應(yīng)不同厚度范圍，可集成到自動(dòng)機(jī)器...
FLATSCAN 薄膜應(yīng)力測(cè)試儀用于對(duì)各種反射面（如硅片、鏡面、X 射線(xiàn)鏡（Goebel-mirrors）、金屬表面或拋光聚合物）的平整度、表面曲率、平均半徑和...
晶圓測(cè)厚儀 MX203-4-21是一款手動(dòng)載片的晶圓幾何特性量測(cè)儀，適用于直徑分別為 50 mm、75 mm和 100 mm的硅片。該設(shè)備專(zhuān)為控制晶圓厚度與形狀...
NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)：自動(dòng)上下栽片，PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜，13“頂蓋式圓柱形鋁腔...
NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)：提供PC控制的PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁...
NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...
進(jìn)口ALD設(shè)備：ALD原子層沉積可以滿(mǎn)足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會(huì)帶來(lái)影響，所以在...
NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī)：PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載...
NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。樣品表...
NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-...
單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...
SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...
SURFTENS HL 200 晶圓接觸角測(cè)量?jī)x專(zhuān)為半導(dǎo)體工業(yè)及科研領(lǐng)域開(kāi)發(fā)，特別適用于硅片表面處理過(guò)程中的工藝控制。它是分析硅片接觸角與潤(rùn)濕性的理想工具，能夠...
SURFTENS HL 200 automatic全自動(dòng)接觸角測(cè)量?jī)x專(zhuān)為半導(dǎo)體工業(yè)和科研領(lǐng)域設(shè)計(jì)，尤其適用于晶圓涂覆及光刻工藝中的工藝控制。
高精度金剛石晶圓劃片機(jī)MR 200 系統(tǒng)軟件的設(shè)置和硬件的配置能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的劃線(xiàn)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)結(jié)構(gòu)化硅片的精準(zhǔn)切割。MR 200 是一款非常有力的工具，尤其在半...
高分辨二次離子質(zhì)譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段，憑借質(zhì)譜分析、二維成像分析、深度元素分析等功能，廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、細(xì)胞學(xué)、地質(zhì)礦物學(xué)、半導(dǎo)體、微電子...
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