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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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SE-MSP光譜橢偏儀顯微分光光度計(jì) 簡(jiǎn)單介紹：對(duì)于某些應(yīng)用（例如MEMS或半導(dǎo)體產(chǎn)品晶圓上的功能），希望有一個(gè)小的探測(cè)點(diǎn)。將顯微分光光度計(jì)與橢圓偏振光度計(jì)集成在一起后，工具的功能將大大擴(kuò)展?？赏ㄟ^橢圓偏振光度法在超薄膜上工作，并且還具有通過微反射法與橢圓度計(jì)和微分光光度計(jì)相結(jié)合的*配置的小面積微反射法。 產(chǎn)品型號(hào)：SE-MSP 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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TFProbe IRSE紅外光譜橢偏儀IRSE 簡(jiǎn)單介紹：紅外光譜橢圓儀（IRSE）可以表征材料的結(jié)構(gòu)（厚度，界面，表面粗糙度，污染），光學(xué)（光學(xué)常數(shù)），電（導(dǎo)電性）以及化學(xué)信息。 產(chǎn)品型號(hào)：TFProbe IRSE 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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CPT-ULTRA-19超聲噴涂系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：超聲噴涂系統(tǒng)應(yīng)用廣泛，各類材料制備噴涂，太陽能電池噴涂，薄膜電池噴涂，鈣鈦礦電池制備噴涂等其他各類自動(dòng)化噴涂工藝應(yīng)用。比如：鈣鈦礦制備氧化鎳，氧化錫，氧化鈦的電子傳輸層制備設(shè)備。 產(chǎn)品型號(hào)：CPT-ULTRA-19 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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高精度狹縫擠出式涂布機(jī)（可適配于套箱） 簡(jiǎn)單介紹：狹縫式涂布技術(shù)（ SlotDie Coating）優(yōu)點(diǎn)為涂膜均勻性高、可適用的涂料黏度范圍廣、涂布速度快、以及可制作大面積的涂膜。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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AS-OneAS真空快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：AS真空快速退火爐，性能ZYUE，可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃，Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準(zhǔn)確。 產(chǎn)品型號(hào)：AS-One 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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AS-Micro真空快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：AS-Micro真空快速退火爐，性能，可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃，zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準(zhǔn)確。 產(chǎn)品型號(hào)：AS-Micro 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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200ml Export packNaphrax 硅藻膠/封固劑 簡(jiǎn)單介紹：Naphrax是一種溶解在甲苯中的合成樹脂。由于其與硅藻殼的表面接觸，其分辨率品質(zhì)至少等于折射率為1.74的封固劑。 產(chǎn)品型號(hào)：200ml Export pack 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
參考價(jià):¥1490 詢價(jià)留言 | ||
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Tergeo小型等離子去膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：美國Tergeo系列臺(tái)式等離子去膠機(jī)專為實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價(jià)比高的小型等離子去膠設(shè)備，等離子強(qiáng)度探測(cè)器實(shí)時(shí)定量檢測(cè)等離子狀態(tài)。 產(chǎn)品型號(hào)：Tergeo 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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M6 Spin CoaterMINN M6勻膠旋涂?jī)x 簡(jiǎn)單介紹：MINN M6勻膠旋涂?jī)x 可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達(dá)控制，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩觸屏人機(jī)界面操作，簡(jiǎn)單易用。M6 Spin Coater外形美觀，結(jié)構(gòu)緊湊，專為實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價(jià)比高的勻膠涂覆設(shè)備。M6 Spin Coater在材料、化學(xué)或生物等實(shí)驗(yàn)室被廣泛用于薄膜制備，納米薄膜研究等相關(guān)領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：M6 Spin Coater 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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納米壓印光刻膠 簡(jiǎn)單介紹：公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學(xué)藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑等。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000 簡(jiǎn)單介紹：SU-8 2000是一種高對(duì)比度，基于環(huán)氧的光致抗蝕劑，設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用，需要厚，化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方，多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。 產(chǎn)品型號(hào)：2035/2050/2075/2100 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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KW-4E可控溫型智能程控KW勻膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：可控溫型智能程控KW勻膠機(jī)-4E可控溫型智能程控勻膠機(jī)，帶進(jìn)膠保護(hù)與報(bào)警 ，旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換 ，旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕。 產(chǎn)品型號(hào)：KW-4E 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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UV-1800UV-1800紫外/可見分光光度計(jì) 簡(jiǎn)單介紹：掃描型分光光度計(jì)，波長范圍寬，滿足各種領(lǐng)域的需求。 ?光譜帶寬選擇的三種選擇：5nm，2nm，1nm，可根據(jù)客戶需求進(jìn)行選擇，滿足藥典要求 ?手動(dòng)4格支架可容納長距離長100mm的電池。 ?來自世界有名制造商的優(yōu)化的光學(xué)和電子設(shè)計(jì)，光源和檢測(cè)器確保了高性能和可靠性 ?豐富的測(cè)量方法：波長掃描，時(shí)間掃描，多波長確定，多階導(dǎo)數(shù)確定，雙波長方法和三波長方法等，滿足不同的測(cè)量要求。 產(chǎn)品型號(hào)：UV-1800 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠 簡(jiǎn)單介紹：SU-8 3000是一種高對(duì)比度，基于環(huán)氧的光刻膠，專為微加工和其他微電子應(yīng)用中， 需要化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改進(jìn)配方，已被廣泛采用 由MEMS生產(chǎn)商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附著力和降低涂層應(yīng)力。 SU-8 3000的粘度范圍允許膜厚為4至單層涂層厚度為120 µm。 產(chǎn)品型號(hào)：3010/3005/3025/3050 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000 簡(jiǎn)單介紹：SU-8 2000是一種高對(duì)比度，基于環(huán)氧的光致抗蝕劑，設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用，需要厚，化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方，多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。 產(chǎn)品型號(hào)：2005/2010/2025 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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Model18美國Jelight紫外臭氧清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：Jelight紫外臭氧清洗機(jī)是一種快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化作用以達(dá)到清洗粘附在物體表面上的有機(jī)化合物（碳?xì)浠衔铮┑哪康摹Ｊ乔宄?、砷化鎵、石英、藍(lán)寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機(jī)污染物的較安全、較有效的方法。 除清洗外，Jelight紫外臭氧清洗機(jī)還可用于表面改質(zhì)，如通過紫外處理后，涂層與表面的粘附力可大大增加，可用于生物芯片制作過程中PDMS鍵合 產(chǎn)品型號(hào)：Model18 所在地：國外 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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Solaris 150UV快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%，處理的大尺寸可以達(dá)到200mm，溫度可以達(dá)到1200攝氏度，處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行，做多可支持4~6路進(jìn)氣，可以用到的氣體包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。 產(chǎn)品型號(hào)：Solaris 150UV 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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Solaris Eclipse快速退火爐系統(tǒng)SS 簡(jiǎn)單介紹：快速退火爐系統(tǒng)SSI是一個(gè)簡(jiǎn)單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火（RTA），（如電子級(jí)硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等）。 產(chǎn)品型號(hào)：Solaris Eclipse 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：SSI快速退火爐系統(tǒng)是一個(gè)簡(jiǎn)單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火（RTA），（如電子級(jí)硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等）。 產(chǎn)品型號(hào)：Solaris 100 /150/200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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SE200/SE300/SE350/SE500光譜橢偏儀 DUV-VIS-NIR 簡(jiǎn)單介紹：光譜橢偏儀可配置從DUV到NIR的波長范圍。DUV范圍可用于測(cè)量超薄膜，如納米厚度范圍。比如硅晶片上的原生氧化物，其通常僅為約1至2nm厚。當(dāng)用戶需要測(cè)量許多材料的帶隙時(shí)，深紫外光譜橢偏儀也是*的?？梢娀蚪t外范圍用于測(cè)量相對(duì)厚或非常厚的涂層。 產(chǎn)品型號(hào)：SE200/SE300/SE350/SE500 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
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