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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱(chēng) | |||
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NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*美國(guó)恩科優(yōu)NXQ Mask Alignment光刻機(jī)，是quanqiu*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)，quanqiu售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：NXQ4000系列 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言 | ||
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NXQ400-8NXQ掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner)，是*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：NXQ400-8 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言 | ||
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NXQ800-6NXQ光刻機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*美國(guó)NXQ光刻機(jī)（Mask Aligner），是*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)，已售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：NXQ800-6 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-07-01 |
參考價(jià):面議 詢(xún)價(jià)留言 | ||
