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主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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共計(jì) 3 條產(chǎn)品信息

產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
MPEM-1600掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner
MPEM-1600掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner
簡單介紹:MYCRO*荷蘭光刻機(jī)(掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner ),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號:MPEM-1600   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-02
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner
MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner
簡單介紹:MYCRO*荷蘭光刻機(jī)(光刻機(jī)Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號:MEMA-800   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-02
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
MMA16光刻機(jī)Aligner MMA
MMA16光刻機(jī)Aligner MMA
簡單介紹:MYCRO*荷蘭(光刻機(jī)Aligner MMA16),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域??蛻羧缑绹娇蘸教旃尽w利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦
產(chǎn)品型號:MMA16   所在地:北京市   更新時(shí)間:2025-07-02
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
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