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主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)
SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)
簡單介紹:SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng),專門設(shè)計用于在劃片或劃片后清洗晶片,針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案,針對10英寸晶圓片。
產(chǎn)品型號:SCS112/SCSe124/SCSe126   所在地:北京市   更新時間:2025-07-02
參考價:面議 詢價留言
CESx124UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)
CESx124UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)
簡單介紹:UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑。
產(chǎn)品型號:CESx124   所在地:北京市   更新時間:2025-07-02
參考價:面議 詢價留言
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