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MKW-200-直寫(xiě)光刻機(jī)/無(wú)掩膜光刻機(jī)

2025-04-27

產(chǎn)      地:
上海
所在地區(qū):
上海上海市
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  • 詳細(xì)介紹

  • 上海麥科威MKW-200是一個(gè)高價(jià)值的激光直寫(xiě)光刻機(jī),面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。

    它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書(shū)寫(xiě)。你可以寫(xiě)任何東西,從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型,集成相機(jī)可以用來(lái)調(diào)整現(xiàn)有的功能寫(xiě)。

    我們對(duì)其進(jìn)行了優(yōu)化,以便于使用和簡(jiǎn)單維護(hù),利用現(xiàn)成的部件,而不犧牲書(shū)寫(xiě)質(zhì)量或功能。

    直接激光書(shū)寫(xiě)光刻

    直接激光光刻技術(shù)通過(guò)消除光掩模生產(chǎn)對(duì)外部供應(yīng)商的依賴,大大降低了微流體、微電子、微機(jī)械和材料科學(xué)研究等領(lǐng)域的成本和執(zhí)行時(shí)間。


    UV-Writer隨其控制軟件在PC上提供。它允許您從GDSII文件的單元格或直接從PNG圖像導(dǎo)入要寫(xiě)入的設(shè)計(jì)。

    一切都是通過(guò)一個(gè)用戶友好的圖形界面來(lái)完成的,它允許您在執(zhí)行之前預(yù)覽要編寫(xiě)的設(shè)計(jì)。

    除了對(duì)每個(gè)設(shè)計(jì)應(yīng)用旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)或比例調(diào)整等變換外,還可以在單個(gè)過(guò)程中組合多個(gè)設(shè)計(jì)。

    在確定了設(shè)計(jì)方案后,采用了所包含的工作臺(tái)控制模塊和共焦顯微鏡。

    使用它們,您可以設(shè)置基片上工藝的原點(diǎn)位置和感光表面上的焦平面。

    接下來(lái)執(zhí)行該過(guò)程并將設(shè)計(jì)寫(xiě)在表面上。



    技術(shù)指標(biāo):

    XY工作臺(tái)

    典型寫(xiě)入速度:100-120 mm/s

    面積:100x92 mm^2

    最小面積:沒(méi)有最小面積

    單向定位臺(tái)階:X=0.16µm,Y=1.00µm

    慢速X軸上的機(jī)械噪聲:<1µm

    快速Y軸上的機(jī)械噪聲:<1µm

    多層對(duì)準(zhǔn)精度:5-10µm(可選旋轉(zhuǎn)臺(tái),便于對(duì)準(zhǔn))

    實(shí)際最小特征尺寸:6-15µm,取決于特征(示例見(jiàn)下圖)


    軟件

    支持的格式:PNG、GDSII

    在軟件轉(zhuǎn)換:,旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)、重縮放、添加邊框

    -可以在一個(gè)進(jìn)程中編寫(xiě)來(lái)自不同文件的多個(gè)設(shè)計(jì)

    -通過(guò)3點(diǎn)線性或4點(diǎn)雙線性聚焦測(cè)量進(jìn)行傾斜/翹曲基板補(bǔ)償

    -全床曲率補(bǔ)償?shù)木W(wǎng)格型標(biāo)定


    光學(xué)

    -激光波長(zhǎng):405nm(可選375nm)

    -激光聚焦、對(duì)準(zhǔn)和檢測(cè)用共焦顯微鏡

    -二次獨(dú)立黃色照明

    -激光光斑尺寸可以使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡物鏡改變


    精度:

    -精細(xì):0.8µm

    -介質(zhì):2µm

    -粗粒:5µm


    大面積包含目標(biāo)的有效書(shū)寫(xiě)速度(單向書(shū)寫(xiě)):

    -精細(xì):1.7 mm^2/min

    -中等:4.25 mm^2/min

    -粗糙度:10.6 mm^2/min

    在雙向?qū)懭肽J较滤俣燃颖丁?/p>





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