詳細(xì)介紹

上海麥科威MKW-200是一個(gè)高價(jià)值的激光直寫(xiě)光刻機(jī)，面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。

它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書(shū)寫(xiě)。你可以寫(xiě)任何東西，從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型，集成相機(jī)可以用來(lái)調(diào)整現(xiàn)有的功能寫(xiě)。

我們對(duì)其進(jìn)行了優(yōu)化，以便于使用和簡(jiǎn)單維護(hù)，利用現(xiàn)成的部件，而不犧牲書(shū)寫(xiě)質(zhì)量或功能。

直接激光書(shū)寫(xiě)光刻

直接激光光刻技術(shù)通過(guò)消除光掩模生產(chǎn)對(duì)外部供應(yīng)商的依賴，大大降低了微流體、微電子、微機(jī)械和材料科學(xué)研究等領(lǐng)域的成本和執(zhí)行時(shí)間。

UV-Writer隨其控制軟件在PC上提供。它允許您從GDSII文件的單元格或直接從PNG圖像導(dǎo)入要寫(xiě)入的設(shè)計(jì)。

一切都是通過(guò)一個(gè)用戶友好的圖形界面來(lái)完成的，它允許您在執(zhí)行之前預(yù)覽要編寫(xiě)的設(shè)計(jì)。

除了對(duì)每個(gè)設(shè)計(jì)應(yīng)用旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)或比例調(diào)整等變換外，還可以在單個(gè)過(guò)程中組合多個(gè)設(shè)計(jì)。

在確定了設(shè)計(jì)方案后，采用了所包含的工作臺(tái)控制模塊和共焦顯微鏡。

使用它們，您可以設(shè)置基片上工藝的原點(diǎn)位置和感光表面上的焦平面。

接下來(lái)執(zhí)行該過(guò)程并將設(shè)計(jì)寫(xiě)在表面上。

技術(shù)指標(biāo)：

XY工作臺(tái)

典型寫(xiě)入速度：100-120 mm/s

面積：100x92 mm^2

最小面積：沒(méi)有最小面積

單向定位臺(tái)階：X=0.16µm，Y=1.00µm

慢速X軸上的機(jī)械噪聲：<1µm

快速Y軸上的機(jī)械噪聲：<1µm

多層對(duì)準(zhǔn)精度：5-10µm（可選旋轉(zhuǎn)臺(tái)，便于對(duì)準(zhǔn)）

實(shí)際最小特征尺寸：6-15µm，取決于特征（示例見(jiàn)下圖）

軟件

支持的格式：PNG、GDSII

在軟件轉(zhuǎn)換：，旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)、重縮放、添加邊框

-可以在一個(gè)進(jìn)程中編寫(xiě)來(lái)自不同文件的多個(gè)設(shè)計(jì)

-通過(guò)3點(diǎn)線性或4點(diǎn)雙線性聚焦測(cè)量進(jìn)行傾斜/翹曲基板補(bǔ)償

-全床曲率補(bǔ)償?shù)木W(wǎng)格型標(biāo)定

光學(xué)

-激光波長(zhǎng)：405nm（可選375nm）

-激光聚焦、對(duì)準(zhǔn)和檢測(cè)用共焦顯微鏡

-二次獨(dú)立黃色照明

-激光光斑尺寸可以使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡物鏡改變

精度：

-精細(xì)：0.8µm

-介質(zhì)：2µm

-粗粒：5µm

大面積包含目標(biāo)的有效書(shū)寫(xiě)速度（單向書(shū)寫(xiě)）：

-精細(xì)：1.7 mm^2/min

-中等：4.25 mm^2/min

-粗糙度：10.6 mm^2/min

在雙向?qū)懭肽Ｊ较滤俣燃颖丁?/p>