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CG-MLC6-實(shí)驗(yàn)室無掩膜曝光機(jī)

2025-03-22

產(chǎn)      地:
安徽省合肥市經(jīng)開區(qū)
所在地區(qū):
安徽合肥市
有效期還剩 234舉報該信息

產(chǎn)品特點(diǎn):

數(shù)字光刻系統(tǒng)

微納器件無掩模版直寫光刻

光掩模版制作

3D結(jié)構(gòu)曝光功能                                        

自動對準(zhǔn)功能

用戶自定義標(biāo)記對準(zhǔn)功能

可視化定點(diǎn)曝光功能

自動聚焦功能                                          

不規(guī)則樣片曝光

快速、精細(xì)兩種曝光模式

支持多種數(shù)據(jù)格式(GDSⅡ/ Gerber/ O DB++)

背部對準(zhǔn)功能(選配)

實(shí)驗(yàn)室無掩膜曝光機(jī)                          

405nm LD光源(375nm可選)


參數(shù):

型號

MLC Lite

ModeⅠ

Mode  Ⅱ

Mode Ⅲ

最小特征尺寸

0.5μm

1μm

2μm

最小線寬線距

0.8μm

1.2μm

2.5μm

CD均勻性

10%

10%

10%

兩層對位精度 5x5m㎡

500nm

800nm

1000nm

兩層對位精度 50x50m㎡

800nm

1000nm

1500nm

產(chǎn)能

50mm2/min

100mm2/min

300mm2/min

最小基板尺寸

5mm x 5mm

基板厚度

0.1 - 12mm(可選)

曝光面積

150mm x 150mm

灰度曝光

可選128階

曝光光源

Laser, 405nm or 375nm




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