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C-33型 4英寸 國(guó)產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

2024-11-05

產(chǎn)      地:
暫無
所在地區(qū):
北京北京市
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C-33型 4英寸 國(guó)產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

C-33型 4英寸 國(guó)產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

主要用途  主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)優(yōu)良,找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。

(1) 這是一臺(tái)雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī);

(2) 這臺(tái)機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作;

(3) 同時(shí)又是一臺(tái)檢查雙面對(duì)準(zhǔn)精度的檢查儀。

C-33型 4英寸 國(guó)產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)主要性能指標(biāo)

(1) 高均勻性LED曝光頭。

 光強(qiáng)≤20mw;曝光面積:100mm×100mm

 曝光不均勻性≤3%

 曝光強(qiáng)度≥30mW/cm2可調(diào)

 紫外光束角≤3°

 紫外光中心波長(zhǎng)365nm、404nm、435nm可選

 紫外光源壽命:≥2萬小時(shí)

 電子快門精準(zhǔn)控制

 對(duì)準(zhǔn)精度1微米、曝光精度1微米、套刻精度1微米

(2) 觀察系統(tǒng)為上下各兩個(gè)單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過視屏線連接計(jì)算機(jī)到液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡;

b、 CCD攝像機(jī)靶面對(duì)角線尺寸為:1/3″,6mm;

c、 采用19″液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;

d、 觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù))

   4.5×57≈256(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)

e、 右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開關(guān):向左為下二個(gè)CCD,向右為上二個(gè)CCD。

(3) 計(jì)算機(jī)硬軟件系統(tǒng):

a、鼠標(biāo)單擊“開始對(duì)準(zhǔn)”,能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來,并處理成透明的,以便對(duì)新進(jìn)入的圖形進(jìn)行對(duì)準(zhǔn);

b、鼠標(biāo)雙擊左面或右面圖形,就分別全屏顯示左或右面圖形。

(4) 非常特殊的板架裝置:

a、該裝置能分別裝入152×152板架,對(duì)版進(jìn)行真空吸附;

b、該裝置安裝在機(jī)座上,能圍繞A點(diǎn)作翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),相對(duì)于承片臺(tái)而言作上下翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),以便于上下版和上下片;

c、該裝置來回反復(fù)翻轉(zhuǎn),回到承片臺(tái)上平面的位置,重復(fù)精度為≤±1.5µ;

d、該裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差之功能,保證版下平面與片上平面之良好接觸,以便提高曝光質(zhì)量。

(5) 承片臺(tái)調(diào)整裝置:

a、 配備有Φ75、Φ100承片臺(tái)各一個(gè),這二種承片臺(tái)有二個(gè)長(zhǎng)方孔,下面二個(gè)CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面;

b、 承片臺(tái)能作XY、Zθ運(yùn)動(dòng),XY、Z可作±5mm運(yùn)動(dòng),θ運(yùn)動(dòng)為±5°;

c、 承片臺(tái)密著環(huán)相對(duì)于版,能實(shí)現(xiàn)“真空密著”:

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸;

真空密著力≤-0.05Mpa~-0.02Mpa為軟接觸;

          真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸;




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