EVG^®610  UV Nanoimprint Lithography System

EVG®610  紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，從小件到大150毫米

技術(shù)數(shù)據(jù)

該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵合對(duì)齊和納米壓印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶(hù)需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間僅為幾分鐘。其良好的多用戶(hù)概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專(zhuān)家級(jí)別的所有需求，因此使其非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。

對(duì)于壓印工藝，EVG610允許基板的范圍從小芯片尺寸到直徑150毫米。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括郵票的釋放機(jī)制。 EV Group專(zhuān)有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的印記，該卡盤(pán)支持軟性和硬性印模。

特征

頂側(cè)和底側(cè)對(duì)齊能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

電動(dòng)和配方控制的曝光間隙

支持新的UV-LED技術(shù)

小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶(hù)概念（無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和配方，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換；      臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

附加功能：鍵對(duì)齊、紅外對(duì)準(zhǔn)、納米壓印光刻、µ接觸印刷

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）標(biāo)準(zhǔn)光刻：大150毫米的碎片；柔軟的UV-NIL：大150毫米的碎片

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程

柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動(dòng)分離：不支持；

工作印章制作：外部；