GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術(shù)，可實現(xiàn)200mm基底面積上高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。

GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm  & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，可實現(xiàn)200/300mm基底面積上高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。
該設(shè)備支持自動復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，工作模具具有精度高，壽命長等特點，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。保證了大面積納米壓印過程中結(jié)構(gòu)精度與高深寬比結(jié)構(gòu)的完整填充，同時保證了大面積結(jié)構(gòu)壓印均勻性。
GL8/12 CLIV納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)。