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GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備

2025-04-17

產(chǎn)      地:
暫無(wú)
所在地區(qū):
山東青島市
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GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備主要功能

● 全自動(dòng)150/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線

●CLIV技術(shù),確保壓印結(jié)構(gòu)精度與結(jié)構(gòu)填充完整性

●Cassette to cassette自動(dòng)上下片,光學(xué)巡邊預(yù)對(duì)位

●設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具,同時(shí)支持自動(dòng)更換工作模具,適合連續(xù)生產(chǎn)

●自動(dòng)對(duì)位、自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模,工藝過(guò)程在密閉潔凈環(huán)境中自動(dòng)進(jìn)行,以保證壓印質(zhì)量

●標(biāo)配高功率紫外LED面光源(365nm,光強(qiáng)>1000mW/cm2 ),水冷冷卻,特殊功率以及特殊、混合波長(zhǎng)光源可訂制,支持各種商用納米壓印材料

●產(chǎn)能可大于40片每小時(shí),適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵)、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)

●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料,包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程,幫助客戶零門檻達(dá)到國(guó)際的納米壓印水平


設(shè)備照片

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GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備相關(guān)參數(shù)

兼容基底尺寸GL150 CLIV:2inch、3inch、100mm、150mm
GL300 CLIV:200mm、300mm
特殊尺寸可定制
支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
上下片方式Cassette to cassette全自動(dòng)上下片
晶圓預(yù)對(duì)位光學(xué)巡邊預(yù)對(duì)位
納米壓印技術(shù)CLIV技術(shù),適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印
壓印精度優(yōu)于10納米*
結(jié)構(gòu)深寬比優(yōu)于10比1*
殘余層控制可小于10nm*
紫外固化光源紫外LED(365nm)面光源,光強(qiáng)>1000mW/cm2,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配)
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制標(biāo)配,外部環(huán)境Class 100,內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10*
自動(dòng)壓印支持
自動(dòng)脫模支持
自動(dòng)工作模具復(fù)制支持
自動(dòng)工作模具更換支持
模具基底對(duì)位功能自動(dòng)對(duì)位(選配)
產(chǎn)能可大于40片每小時(shí)*



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