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ULVAC 離子注入機(jī)
高能對(duì)應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400可達(dá)2400KeV的高能離子注入設(shè)備。

型號(hào)： SOPHI-400 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 22:26:02 對(duì)比

SOPHI-400離子注入機(jī)日本愛(ài)發(fā)科ULVAC/日本愛(ài)發(fā)科
Veeco分子束外延
Veeco 的 GEN200® MBE 系統(tǒng)是當(dāng)今市場(chǎng)上具成本效益和高容量的多片 4 英寸生產(chǎn) MBE 系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、VCSEL 和 ...

型號(hào)： GEN200 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 22:22:58 對(duì)比

GEN200Veeco分子束外延MBE
ELIONIX離子束刻蝕機(jī)
EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機(jī)，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進(jìn)行納米蝕刻和沉積，制品特微。

型號(hào)： EIS-200ER... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 22:19:17 對(duì)比

EIS-200ERPELIONIX離子束刻蝕機(jī)離子束刻蝕機(jī)
ELIONIX 離子束刻蝕機(jī)
EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束，通過(guò)充分利用光束面內(nèi)分布監(jiān)控功能，可以實(shí)現(xiàn)各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機(jī)

型號(hào)： EIS-1500 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 22:17:25 對(duì)比

EIS-1500離子束刻蝕機(jī)ELIONIX
等離子刻蝕機(jī)
SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。

型號(hào)： SENTECH S... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 22:07:47 對(duì)比

SENTECH SI 591刻蝕機(jī)反應(yīng)離子刻蝕
SENTECH等離子刻蝕集群系統(tǒng)
SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個(gè)轉(zhuǎn)移室和一個(gè)真空負(fù)載鎖或盒式站。包括搬運(yùn)機(jī)器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個(gè)端口。最多可以使用兩個(gè)盒式磁帶站...

型號(hào)： SENTECH 集... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 22:05:52 對(duì)比

SENTECH 集群系統(tǒng)刻蝕集群SENTECH
Beneq原子層沉積系統(tǒng)
TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個(gè) Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...

型號(hào)： TFS 500 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 22:03:32 對(duì)比

Beneq原子層沉積系統(tǒng)TFS 500ALD
Beneq原子層沉積系統(tǒng)
Beneq P800 專門設(shè)計(jì)用于涂覆復(fù)雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...

型號(hào)： Beneq P80... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 22:01:12 對(duì)比

Beneq P800原子層沉積系統(tǒng)ALDPEALD
BENEQ原子層沉積系統(tǒng)
Beneq TFS 200 是有史以來(lái)最靈活的原子層沉積研究平臺(tái)，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過(guò)專門設(shè)計(jì)，可最大限度地減少多用戶...

型號(hào)： Beneq TFS... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 21:59:04 對(duì)比

Beneq TFS 200BENEQ原子層沉積系統(tǒng)ALDPEALD
MPI 探針臺(tái)
CAPELLA系列探針臺(tái)支持從晶圓到封裝芯片級(jí)的所有LED產(chǎn)品類型（垂直芯片、橫向芯片、倒裝芯片）的電氣和光學(xué)表征。無(wú)論您是需要高性能、高性價(jià)比還是專業(yè)探針系統(tǒng)...

型號(hào)： CAPELLA系列所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 21:51:17 對(duì)比

MPI全自動(dòng)探針臺(tái)
Formfactor手動(dòng)探針臺(tái)
入門級(jí)手動(dòng)探針臺(tái)，用于表面耦合和水平邊緣耦合FormFactor推出了一種具有成本效益的硅光子學(xué)測(cè)量解決方案，以支持新興應(yīng)用的基礎(chǔ)研究工作。該系統(tǒng)的設(shè)計(jì)是For...

型號(hào)： MPS150 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 21:49:14 對(duì)比

手動(dòng)探針臺(tái)Formfactor半自動(dòng)探針臺(tái)
Formfactor探針臺(tái)
CM300xi 探針臺(tái)可應(yīng)對(duì)極其復(fù)雜的環(huán)境帶來(lái)的測(cè)量挑戰(zhàn)，例如在長(zhǎng)時(shí)間和多種溫度下在小焊盤(pán)上進(jìn)行無(wú)人值守的測(cè)試。在 EMI 屏蔽、光密和無(wú)濕氣的測(cè)試環(huán)境中，為各...

型號(hào)： CM300xi型所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 21:46:48 對(duì)比

Formfactor全自動(dòng)探針臺(tái)
SUSS掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
SUSS MicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計(jì)了一款新型光刻平臺(tái)：MA100/150e Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)?；衔锇雽?dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...

型號(hào)： MA100/150... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 21:40:38 對(duì)比

掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)MA100/150eSUSS
原子層沉積系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，專為入門級(jí)到中級(jí)用戶而...

型號(hào)： ALD-150LE... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 21:37:11 對(duì)比

PEALD原子層沉積系統(tǒng)ALD流化床ALD
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
SENTECH SI 500 CCP 系統(tǒng)使用動(dòng)態(tài)溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢(shì)。等離子體蝕刻過(guò)程中的襯底溫度設(shè)置和穩(wěn)定性是高質(zhì)量蝕刻的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)...

型號(hào)： SENTECH S... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/7/26 21:33:10 對(duì)比

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)SENTECH
開(kāi)爾文探針
開(kāi)爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動(dòng)電容裝置，用于測(cè)試導(dǎo)電材料的功函或半導(dǎo)體材料表面的表面電勢(shì)，表面功函。由材料表面最頂部的1-3層原子或分子決定，因而其是一種...

型號(hào)： KP020 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/23 16:35:58 對(duì)比

開(kāi)爾文探針價(jià)格功函數(shù)測(cè)量單點(diǎn)開(kāi)爾文探針掃描開(kāi)爾文探針開(kāi)爾文
掃描開(kāi)爾文探針
掃描開(kāi)爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動(dòng)電容裝置，用于測(cè)試導(dǎo)電材料的功函或半導(dǎo)體材料表面的表面電勢(shì)，表面功函。由材料表面最頂部的1-3層原子或分子決定，因而開(kāi)爾...

型號(hào)： SKP5050 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/23 16:32:37 對(duì)比

開(kāi)爾文探針單點(diǎn)開(kāi)爾文探針掃描開(kāi)爾文探針價(jià)格探針開(kāi)爾文探針價(jià)格
薄膜應(yīng)力測(cè)試儀/日本TOHO
薄膜應(yīng)力量測(cè)設(shè)備FLX系列設(shè)備是由日本TOHO公司所生產(chǎn)的，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)薄膜應(yīng)力的量測(cè)。薄膜應(yīng)力測(cè)試儀/日本TOHO測(cè)試原理：在硅晶圓或者其他材料基地上...

型號(hào)： FLX-2320-... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/23 16:22:26 對(duì)比

日本TOHO薄膜應(yīng)力測(cè)試儀FLX-2320-R薄膜應(yīng)力測(cè)量?jī)x薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)
低能電子顯微鏡/LEEM
低能電子顯微鏡/LEEM是廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域的高技術(shù)分析儀器，能集原位觀測(cè)、超快及光電子成像于一體，即我們所稱的“長(zhǎng)眼睛的超級(jí)XPS“，能對(duì)薄膜以及二維材料...

型號(hào)： MAKEWAY 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/23 16:17:25 對(duì)比

LEEM低能電子顯微鏡光發(fā)射電子顯微鏡PEEM電子顯微鏡價(jià)格
掃描隧道顯微鏡/NAP-STM
掃描隧道顯微鏡/NAP-STM（Scanning Tunneling Microscope, STM）是一種基于量子隧穿效應(yīng)的高分辨率表面分析儀器，能夠在原子尺...

型號(hào)： MAKEWAY 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/23 16:12:03 對(duì)比

掃描隧道顯微鏡近常壓掃描隧道顯微鏡STM隧道顯微鏡掃描隧道顯微鏡價(jià)格

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