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SUSS MicroTec為熱門化合物半導體工藝專門設計了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準光刻機?；衔锇雽w工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)，專為入門級到中級用戶而...

SENTECH SI 500 CCP 系統(tǒng)使用動態(tài)溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設置和穩(wěn)定性是高質量蝕刻的嚴格標準...

開爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動電容裝置，用于測試導電材料的功函或半導體材料表面的表面電勢，表面功函。由材料表面最頂部的1-3層原子或分子決定，因而其是一種...

掃描開爾文探針是一種非接觸、非破壞性振動電容裝置，用于測試導電材料的功函或半導體材料表面的表面電勢，表面功函。由材料表面最頂部的1-3層原子或分子決定，因而開爾...

近常壓X射線光電子能譜儀四級差分抽氣系統(tǒng)，一級和二級差分抽氣之間配有閥門，可以實現(xiàn)真空腔體進氣時保證分析器的真空度。

低能電子顯微鏡/LEEM是廣泛應用于材料科學領域的高技術分析儀器，能集原位觀測、超快及光電子成像于一體，即我們所稱的“長眼睛的超級XPS“，能對薄膜以及二維材料...

掃描隧道顯微鏡/NAP-STM（Scanning Tunneling Microscope, STM）是一種基于量子隧穿效應的高分辨率表面分析儀器，能夠在原子尺...

光發(fā)射電子顯微鏡/PEEM是廣泛應用于材料科學領域的高技術分析儀器，能集原位觀測、超快及光電子成像于一體，即我們所稱的“長眼睛的超級XPS"，能對薄膜以及二維材...

來自德國aixACCT公司的鐵電分析儀，包括眾多型號及選配件，模塊化設計的aixACCT 鐵電分析儀具有優(yōu)異的擴展性。德國aixACCT鐵電分析儀可廣泛地應用于...

來自德國aixACCT公司鐵電分析儀，包括眾多型號及選配件，模塊化設計的aixACCT 鐵電分析儀具有優(yōu)異的擴展性。德國aixACCT鐵電測試儀可廣泛地應用于如...

高溫高壓光浮區(qū)單晶爐/日本CSC能夠提供2200℃以上的生長溫度，晶體生長腔壓力可達300bar，甚至10-5mbar的高真空。適用于生長各種超導材料單晶，介電...

真空快速退火爐AS-OneAS-One是一種通用的RTP系統(tǒng)，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝?？梢源钆浞肿颖脤崿F(xiàn)高真空下熱處理工藝。最高溫度1500 ℃...

回流焊爐簡介：1. 應用領域：無助焊劑焊接；倒裝芯片焊接；鍵合；Bump回流焊接；微電子封裝；功率器件焊接；晶圓熱處理；工藝研發(fā)；質量控制2. 加熱區(qū)域：4、6...

德國尤尼坦專業(yè)制造真空回流焊爐、快速熱退火系統(tǒng)，回流焊爐(無焊劑和無空隙焊接)和高精度熱板等熱工藝設備?；?0多年的研發(fā)和生產(chǎn)實驗室和小批量生產(chǎn)的研發(fā)設備的經(jīng)...

真空快速退火爐/德國UniTemp是半導體材料和器件常用的一款工藝設備。快速退火爐可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用。

RTP-200 8寸快速退火爐/德國UniTemp為德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn)，分為RTP-100，RTP-150，RSO-200，VPO-300共四個型號，分別對應4...

離子注入機/法國IBS由離子源、質量分析器、加速器、四級透鏡、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據(jù)實際需要省去次要部位。離子源是離子注入機的主要部位，作用是把需要注入的...

中電流離子注入機IMX-3500是一款最高能量為200kV、晶圓尺寸最大為8英寸的離子注入機，離子注入機/日本ULVAC非常適合大學的研發(fā)。

韓國Ecopia變溫霍爾效應測試儀HMS3000，HMS5000主要用于研究半導體材料/光電材料的電學特性，可以測量材料在不同溫度、磁場下的載流子濃度、遷移率、...