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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 原子層刻蝕

    ALE是一種先進(jìn)的刻蝕技術(shù),可以針對(duì)較淺的微結(jié)構(gòu)進(jìn)行出色的深度控制。 隨著器件微結(jié)構(gòu)尺寸越來(lái)越小,要達(dá)到器件的更高性能可以通過(guò)ALE技術(shù)所具有的精度來(lái)實(shí)現(xiàn)。在如...
    型號(hào): PlasmaPro... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 17:13:14 對(duì)比
  • 高精密微3D光刻機(jī)

    織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設(shè)備, 最高光學(xué)分辨率可達(dá)1μm,支持最大50 mm×50 mm&#...
    型號(hào): 織雀™... 所在地:蘇州市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 17:09:44 對(duì)比
  • 桌面式高精密3D光刻機(jī)

    織雀™PL-3D 是托托科技自主研發(fā)的桌面式高精密3D光刻設(shè)備,光學(xué)精度達(dá)5μm。在復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復(fù)合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方...
    型號(hào): 織雀™... 所在地:蘇州市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 17:06:01 對(duì)比
  • 無(wú)掩膜光刻機(jī)

    BIO系列是生命科學(xué)版的無(wú)掩膜紫外光刻機(jī),無(wú)掩膜光刻機(jī)具有更高的深寬比,能滿(mǎn)足生命科學(xué)領(lǐng)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類(lèi)的具有特定需求的樣品 。在微...
    型號(hào): BIO L+ 所在地:蘇州市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 17:02:00 對(duì)比
  • 無(wú)掩膜光刻機(jī)

    Speed系列是高速版的無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī),其無(wú)掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性,更在這一...
    型號(hào): UV Litho-... 所在地:蘇州市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:57:54 對(duì)比
  • 無(wú)掩膜光刻機(jī)

    ACA系列是科研版的無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī),其基于空間光調(diào)制技術(shù),實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源,設(shè)備穩(wěn)定,上手簡(jiǎn)單。...
    型號(hào): UV Litho-... 所在地:蘇州市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:53:38 對(duì)比
  • 激光掩模光刻機(jī)

    ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專(zhuān)門(mén)用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備,包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) (IoT) 和 ME...
    型號(hào): ULTRA 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:49:59 對(duì)比
  • 無(wú)掩模直接成像儀光刻機(jī)

    PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器,專(zhuān)為在 i 線光刻膠中直接寫(xiě)入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具,具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)組件,能夠以最高的...
    型號(hào): VPG 300 D... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:43:56 對(duì)比
  • 有掩膜光刻機(jī)

    VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng),專(zhuān)為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸,最大尺寸為 4...
    型號(hào): VPG 200 /... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:39:38 對(duì)比
  • 激光光刻機(jī)

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化,設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、...
    型號(hào): DWL 2000 ... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:35:30 對(duì)比
  • 雙光子聚合直寫(xiě)光刻機(jī)

    MPO 100雙光子聚合直寫(xiě)光刻機(jī)是一種雙光子聚合 (TPP) 多用戶(hù)工具,用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印,適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)...
    型號(hào): MPO 100 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:30:58 對(duì)比
  • 無(wú)掩模對(duì)光刻機(jī)

    無(wú)掩模對(duì)光刻機(jī) MLA 300 提供高吞吐量、簡(jiǎn)化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) (MES) 的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
    型號(hào): MLA 300 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:28:32 對(duì)比
  • 無(wú)掩模直接成像儀

    VPG 300 DI 無(wú)掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器,專(zhuān)為在 i 線光刻膠中直接寫(xiě)入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具,具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)...
    型號(hào): VPG 300 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:22:48 對(duì)比
  • 激光光刻機(jī).

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化,設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、...
    型號(hào): DWL 2000 ... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:18:52 對(duì)比
  • 原子層沉積(ALD)

    FlexAL系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積(ALD),這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計(jì)提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產(chǎn)品家族涵蓋的系列設(shè)備可以滿(mǎn)足學(xué)術(shù)界、...
    型號(hào): FlexAL 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:13:14 對(duì)比
  • ICPCVD

    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開(kāi)式系統(tǒng),可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能夠確保工藝性能。直開(kāi)式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)...
    型號(hào): PlasmaPro... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:11:24 對(duì)比
  • LSA 101 激光退火爐

    Veeco 的 LSA101 系統(tǒng)安裝在的 IDM 和晶圓代工廠,是大批量制造 40nm 至 14nm 節(jié)點(diǎn)的先進(jìn)邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)基于...
    型號(hào): 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:09:17 對(duì)比
  • 投影步進(jìn)電機(jī)

    AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺(tái)™構(gòu)建,可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能,并可實(shí)現(xiàn)高度自動(dòng)化和具有成本...
    型號(hào): AP200/300 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:07:13 對(duì)比
  • 離子束濺射 (IBD) 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)

    用 Veeco 的 SPECTOR® 離子束濺射 (IBD) 光學(xué)鍍膜系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)更高的精度和薄膜工藝靈活性。SPECTOR IBD 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)具有多...
    型號(hào): SPECTOR 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:05:19 對(duì)比
  • Lancer離子束蝕刻系統(tǒng)

    新型 Lancer™ 離子束蝕刻 (IBE) 系統(tǒng)專(zhuān)為開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)智能手機(jī)、自動(dòng)駕駛汽車(chē)和其他可實(shí)現(xiàn)連接性、功能性和移動(dòng)性的“物聯(lián)網(wǎng)"設(shè)備中的下一代電...
    型號(hào): 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 16:03:26 對(duì)比

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