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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測(cè)量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工...
    型號(hào)： SMART 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:33:52 對(duì)比

  • 高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測(cè)量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對(duì)接。熱...
    型號(hào)： DZ450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:29:32 對(duì)比

  • 高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測(cè)量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途...
    型號(hào)： DZ350 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:25:49 對(duì)比

  • 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、工作氣路、電控系統(tǒng)...
    型號(hào)： LMBE450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:21:18 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào)： JGP560 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:17:28 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào)： JGP450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:13:49 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面...
    型號(hào)： PC450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:09:07 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào)： TRP450 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:05:28 對(duì)比

  • 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于...
    型號(hào)： 線列式 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 18:02:04 對(duì)比

  • 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于...
    型號(hào)： SMART 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:58:42 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
    型號(hào)： PVD500 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:54:44 對(duì)比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào)： PVD400 所在地：沈陽(yáng)市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:50:21 對(duì)比

  • 開(kāi)蓋等離子蝕刻系統(tǒng)

    等離子蝕刻系統(tǒng) Etchlab 200 具有經(jīng)濟(jì)高效的 RIE 直接加載的優(yōu)點(diǎn)。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載...
    型號(hào)： Etchlab 2... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:43:59 對(duì)比

  • PEARD系統(tǒng)

    SENTECH SILAYO是一種用于光學(xué)鍍膜的等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴(kuò)展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:40:01 對(duì)比

  • PEALD 系統(tǒng)

    SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對(duì)敏感基材和層進(jìn)行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類，而沒(méi)有紫外線輻射或離子轟擊。...
    型號(hào)： SI PEALD 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:35:37 對(duì)比

  • ICPECVD 系統(tǒng)

    電感耦合等離子體 （ICP） 沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
    型號(hào)： SI 500 D 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:31:28 對(duì)比

  • 等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統(tǒng)使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 （ICP） 源，可實(shí)現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結(jié)構(gòu)。
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:27:46 對(duì)比

  • 等離子體蝕刻系統(tǒng)

    SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設(shè)計(jì)的電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代...
    型號(hào)： SI 500 C 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:26:15 對(duì)比

  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

    PlasmaPro 100 Nano用于生長(zhǎng)1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過(guò)在線催化劑活...
    型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:20:43 對(duì)比

  • 離子束沉積

    離子束沉積產(chǎn)品是因?yàn)樗鼈兡軌蛏a(chǎn)具有高質(zhì)量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術(shù)提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設(shè)備上實(shí)現(xiàn)， 因而提高系統(tǒng)的利用率。...
    型號(hào)： Ionfab 30... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 17:17:21 對(duì)比
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