久久99热精品深田咏美,日本精品欧美精品亚洲精品

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備高速進(jìn)行各種材料的超精細(xì)加工的負(fù)載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電...
型號(hào)： RIE-230iP 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:53:29 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-230iP SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iPC是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進(jìn)行各種材料的超精細(xì)加工的盒式ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子...
型號(hào)： RIE-230iP... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:51:07 對(duì)比

RIE-230iPC 等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-400iP是用于ø4 “晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備可對(duì)各種半導(dǎo)體和絕緣膜進(jìn)行高精度、高均勻性加工。采用龍卷風(fēng)線圈的電...
型號(hào)： RIE-400iP 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:48:38 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-400iP SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備，可處理多達(dá)ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅(jiān)固...
型號(hào)： RIE-350iP... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:46:44 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-350iPC SAMCO
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號(hào)： RIE-800iP... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:44:47 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 SAMCO RIE-800iPC
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由R...
型號(hào)： RIE-400iP... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:42:34 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-400iPB SAMCO
電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備
Samco 的 RIE-800iPB 是一種電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備，使用高密度等離子體進(jìn)行 MEMS 和 TSV 應(yīng)用所需的深度硅蝕刻。RIE-800iPB是...
型號(hào)： RIE-800iP... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:40:51 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-800iPB SAMCO
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-800BCT是使用電感耦合等離子體作為放電形式的生產(chǎn)型硅DRIE系統(tǒng)。這種高性能系統(tǒng)能夠進(jìn)行高縱橫比處理（超過100）和低扇形處理，同時(shí)保持高蝕刻率和選...
型號(hào)： RIE-800BC... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:39:08 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-800BCT SAMCO
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-802BCT深硅刻蝕設(shè)備是采用電感耦合等離子體作為放電形式的兩個(gè)反應(yīng)室的量產(chǎn)用硅深孔系統(tǒng)。標(biāo)準(zhǔn)配置有空氣盒和晶圓邊緣保護(hù)環(huán)，以及高精度的晶圓對(duì)準(zhǔn)器。該高...
型號(hào)： RIE-802BC... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:36:39 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-802BCT SAMCO
芯片刻蝕機(jī)
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機(jī)，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
型號(hào)： ELEDE... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:09:50 對(duì)比

芯片刻蝕機(jī)ELEDE® 380系列北方華創(chuàng)
高密度刻蝕機(jī)
GDE C200系列高密度刻蝕機(jī)，等離子體源和頻率設(shè)計(jì)，等離子體密度高，適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕。
型號(hào)： GDE C200系... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:51:45 對(duì)比

GDE C200系列高密度刻蝕機(jī)北方華創(chuàng)
ICP 刻蝕機(jī)
NMC 508系列 ICP刻蝕機(jī)是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機(jī)，具有高精度、高選擇性和高效...
型號(hào)： NMC 508系列所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:50:11 對(duì)比

ICP刻蝕機(jī)NMC 508系列北方華創(chuàng)
12英寸金屬刻蝕機(jī)
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機(jī)，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
型號(hào)： NMC 612G 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:48:12 對(duì)比

12英寸金屬刻蝕機(jī)NMC 612G 北方華創(chuàng)
CCP介質(zhì)刻蝕機(jī)
NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機(jī)，多頻解耦設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質(zhì)刻蝕。
型號(hào)： NMC 508系列所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:29:43 對(duì)比

CCP介質(zhì)刻蝕機(jī)NMC 508系列北方華創(chuàng)
多功能刻蝕機(jī)
GSE C200 多功能刻蝕機(jī)等離子體源設(shè)計(jì)，保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源，刻蝕速率高、均勻性好、顆?？刂颇芰?qiáng)、易維護(hù)、性能穩(wěn)定...
型號(hào)： GSE C200 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:27:24 對(duì)比

多功能刻蝕機(jī)GSE C200 北方華創(chuàng)
多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)
多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)-概述：1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)2.系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)3.系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 10:35:20 對(duì)比

等離子體刻蝕系統(tǒng)刻蝕系統(tǒng)
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
CIF推出RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)，科研院所、微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻...
型號(hào)： RIE200/Pl... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 10:13:33 對(duì)比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)刻蝕機(jī)
深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH
提供深硅蝕刻（DSiE）領(lǐng)域的MEMS，封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用，從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕，不需要更換腔室硬件就可以實(shí)現(xiàn)。
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 7:27:22 對(duì)比

深硅刻蝕系統(tǒng)刻蝕設(shè)備刻蝕系統(tǒng)OXFORD
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)配置與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以...
型號(hào)： Ionfab 30... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 7:25:11 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 刻蝕設(shè)備 OXFORD
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝，兼容200mm以下所有尺寸的晶圓，快速更換到不同尺寸的晶圓工藝，電極的適用溫度范圍寬，-150°C至400...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 7:21:16 對(duì)比

離子刻蝕系統(tǒng)RIE 等離子刻蝕固體激光器 InP刻蝕石英刻蝕 OXFORD

99超碰中文字幕在线观看-天天干天天日天天舔婷婷-我看操逼的好看的女人的-日本一二三四五区日韩精品

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

會(huì)員登錄

收藏該商鋪

提示