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詳細摘要：美國進口99.99% ITO純度的ito靶材 , 適用于各種電鏡實驗鍍膜制樣的金屬靶材。有高純38mm和高純57mm兩種規(guī)格。

詳細摘要：easiSlicer™全自動振動切片機操作簡單、工藝精準、且價格實惠，主要用于切新鮮的或固定后的動、植物組織。

詳細摘要：Ted Pella公司的微波技術(shù)及方法帶來了組織處理領(lǐng)域的一場革新。相比于傳統(tǒng)處理方法，使用新一代PELCO 微波快速組織處理儀，不僅組織處理時間可節(jié)省高達95%，而且能始終如一地得到*的實驗結(jié)果。樣品溫度及微波輻射功率的控制是有效利用微波技術(shù)的關(guān)鍵。

詳細摘要：良好的微波組織處理器

詳細摘要：Ted Pella PELCO高性能導(dǎo)電鎳膏/鎳膠
在無機硅酸鹽水溶液中的鎳粒，提供用于粘接樣品的導(dǎo)電粘合劑，可在以下特殊要求中應(yīng)用：
高溫可達538°C
超高真空-無碳氫化合物，無揮發(fā)性有機化合物
低溫應(yīng)用（適用性取決于匹配性能）

詳細摘要：H20E 導(dǎo)電膠的性能使其特別適用于微電子和光電子應(yīng)用中的芯片粘接，具有良好的處理性能，室溫下壽命周期長。適合于要求快速固化的應(yīng)用如快速電路修復(fù)、絲網(wǎng)印刷等，承受溫度可高達400°C。

詳細摘要：H-22 Epo-Tek®導(dǎo)電銀膠的性能使其特別適用于微電子和光電子應(yīng)用中的芯片粘接，具有良好的處理性能，室溫下壽命周期長。適合于要求快速固化的應(yīng)用如快速電路修復(fù)、絲網(wǎng)印刷等，承受溫度可高達400°C。

詳細摘要：二氧化硅氧化石墨烯支持膜：基于超平SiO2 的氧化石墨烯支持膜，氧化石墨烯附在超平SiO2 基片上，通常用于研究實驗平臺。氧化石墨烯整個鋪在5x5mm的基片上，利用率約70%。

詳細摘要：氧化石墨烯鋪在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔徑為2.5um，孔間距為4.5um， Si3N4的膜厚為200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。氮化硅氧化石墨烯支持膜適合做生命科學(xué)研究。

詳細摘要：石墨烯膜覆蓋在5x5mm的基片上，使用率為75%，可提供單層、2層、3-5層和6-8層石墨烯。二氧化硅石墨烯支持膜作為一種超平實驗平臺，可適用于AFM成像。

詳細摘要：PELCO氧化石墨烯支持膜是來源于單層和2層PELCO石墨烯支持膜，與石墨烯支持膜不同的是石墨烯做了氧化處理。氧化處理后的膜具有親水性，更適合生命科學(xué)的應(yīng)用和研究。

詳細摘要：這種石墨烯產(chǎn)品是由多孔氮化硅支撐，在0.5x0.5mm的窗口上鋪了一層Si3N4，網(wǎng)格的孔徑為2.5um，孔間距為4.5um。石墨烯的使用率為75%，可提供單層、2層、3-5層和6-8層石墨烯。多孔氮化硅石墨烯支持膜適合UHR成像，或者作為一種實驗平臺。

詳細摘要：石墨烯直接鋪在2000目的銅網(wǎng)上，銅網(wǎng)的孔直徑6.5um，孔間距12.5um，這種銅網(wǎng)的透過率為41% 。2000目的銅網(wǎng)在鋪在1x2mm開槽的Synaptek基片上。2000目銅網(wǎng)石墨烯支持膜適合UHR成像，或者作為一種實驗平臺。

詳細摘要：這種石墨烯支持膜是基于300目銅網(wǎng)上的微柵膜上。我們可以提供單層、2層、3-5層和6-8層石墨烯膜，膜覆蓋與整個基片上。

詳細摘要：產(chǎn)品編號描述單位
260368蓋玻片， 直徑10mm100個/包
26023蓋玻片， 直徑12mm1/4 oz

26024蓋玻片， 直徑15mm1/4 oz

詳細摘要：產(chǎn)品編號描述單位
50AFM云母片， 10mm10個/包
50-12AFM云母片， 12mm10個/包
50-15AFM云母片， 15mm10個/包
50-20AFM云母片， 20mm10個/包

詳細摘要：產(chǎn)品編號描述單位
1671PELCO® 10mm， AFM圓片夾個
1668PELCO® 12mm， AFM圓片夾個
1669PELCO® 15mm， AFM圓片夾個
1672PELCO® 20mm ， AFM圓片夾個

詳細摘要：適合 FEI/Philips、ZEISS/LEO/Leica、 Cambridge CamScan、Tescan,、Amray 和 ETEC等品牌SEM
產(chǎn)品代碼描述單位
16709PELCO® 18釘形SEM樣品座和樣品盒，含18個12.7mm釘形樣品座盒

詳細摘要：長：38.9mm
切口長度：38.8mm
寬：19.6mm
厚：0.229mm

詳細摘要：長：42.8mm
切口長度：36mm
寬：22mm
厚：0.127mm