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西安瑞禧生物科技有限公司

2022 06-21

OH可型小分子NIR-II熒光探針簡介

羥基自由基(OH)是生物系統(tǒng)中具有氧化能力分子之一,與DNA、蛋白質(zhì)和脂質(zhì)等生物分子作用會造成氧化應激。設計一種非平面、共輒性差的花菁類染料Hydro-1080,其在可見光區(qū)域具有較弱的光學吸收且沒有...

2022 06-21

聚乙二醇修飾熒光探針 PEG-IR-E1簡介

利用近紅外二窗(NIR-Ⅱ)熒光基團CH1055和Ⅱ型膠原蛋白靶向肽構(gòu)建一種近紅外二窗熒光探針并表征其化學特性.方法:利用近紅外二窗熒光基團CH1055和靶向Ⅱ型膠原蛋白的多肽WYRGRL采用化學方法...

2022 06-20

花菁染料J-聚集體環(huán)形ICG分子/近紅外菁染料環(huán)形ICG

J聚集體具有的性能與功能,菁染料J-聚集體可應用于成像材料、信息存儲材料、光電材料、太陽能電池和光催化過程等領域。不同菁染料所形成的J-聚集體有不同的組成和結(jié)構(gòu)。將J-聚集體看成一維的線性鏈狀結(jié)構(gòu),這...

2022 06-20

DMPC磷脂修飾FD-1080熒光分子修飾牛血清白蛋白BSA

熒光成像具有靈敏度、分辨率和反饋等優(yōu)勢。近紅外(NIR-II)內(nèi)的光子對生物組織具有的穿透深度和信噪比;尤其位于1500-1700nm范圍內(nèi)的光子,生物組織在此范圍內(nèi)具有更低的散射、吸收和自發(fā)熒光。一...

2022 06-20

近紅外二區(qū)熒光分子-近紅外二區(qū)有機小分子熒光探針

熒光成像具有靈敏度高、特異性強等優(yōu)勢.然而傳統(tǒng)的近紅外一區(qū)(NIR-I,700-900nm)熒光成像存在組織穿透性差等問題.近紅外二區(qū)(NIR-I1,1000-1700nm)熒光成像可以減弱生物組織對...

2022 06-20

環(huán)形J-聚集體-花菁染料IR820 /近紅外環(huán)形IR820

溶液中的J-聚集體:隨著染料溶液濃度的提高,其吸收波峰發(fā)生藍移。這時產(chǎn)生了雙分子聚集體(D峰)或小的聚集體〈H峰)。進一步提高濃度后又會形成尺寸較大的聚集體、并發(fā)生吸收峰的紅移(呈現(xiàn)吸收強度高而窄的吸...

2022 06-06

2-羧基-4-降冰片內(nèi)酯-5-甲基丙烯酸酯 254900-07-7簡介

光刻膠是電子產(chǎn)業(yè)關鍵材料之一,又稱光致抗蝕劑,是一種對光的混合液體。其組成成分主要有光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠能夠通過光化學反應,在曝光、顯影等光刻...

2022 06-06

雙(4-叔丁苯基)碘鎓三氟甲磺酸鹽 84563-54-2簡介

光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光的混合液體。在光...

2022 06-06

丙烯酸1-乙基環(huán)戊酯 CAS:326925-69-3 C10H16O2

光刻膠按照應用領域劃分,主要可分為PCB、面板、半導體三類,每一類光刻膠又有各自細分品類。其中半導體光刻膠技術門檻,按照光源波長的從大到小,可分為紫外寬譜(300-450nm)、g線(436nm)、i...

2022 06-06

2-羰基-四氫呋喃-3-羥基-甲基丙烯酸酯 195000-66-9

光刻膠是光刻工藝的材料,主要由樹脂、感光劑、溶劑、添加劑等組成,其中樹脂和感光劑是的部分。光刻膠主要成分:樹脂聚合物、感光劑、溶劑、添加劑。中文名稱:2-羰基-四氫呋喃-3-羥基-甲基丙烯酸酯英文名2...

2022 06-01

甲基丙烯酸-9-蒽甲酯 31645-35-9 C19H16O2

光刻膠是一種有機化合物,受特定波長光線曝光作用后其化學結(jié)構(gòu)改變,在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化,因此又稱光致抗蝕劑。正膠在曝光后發(fā)生光化學反應,可以被顯影液溶解,留下的薄膜圖形與掩膜版相同;而負膠經(jīng)過曝...

2022 06-01

光刻膠-(9H-芴-9,9-二基)雙(亞甲基)二丙烯酸酯

光刻膠,又稱光致抗蝕劑,具有光化學性,在光的照射下溶解度發(fā)生變化,一般以液態(tài)涂覆在半導體、導體等基片表面上,曝光烘烤后成固態(tài),它可以實現(xiàn)從掩膜版到基片上的圖形轉(zhuǎn)移,在后續(xù)的處理工序中保護基片不受侵蝕,...

2022 06-01

2-異丙基-2-金剛烷醇丙烯酸酯 251564-67-7

光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中,涂層曝光、顯影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下來,該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來,而未曝光被溶解,該涂層材料為負性光刻...

2022 06-01

2-乙基-2-金剛烷基丙烯酸酯 303186-14-3

光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時,若...

2022 06-01

2-甲基-2-金剛烷醇丙烯酸酯 249562-06-9

光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料??捎糜谏罟杩涛g,適合于深寬比工藝,透明度,垂直度好。中文名稱:2-甲基-2-金剛烷醇丙烯...

2022 05-25

hrEGF-DDP 人表皮因子修飾順鉑

hrEGF修飾的載順鉑分子納米粒的制備,以聚乙二醇-聚乳酸羥基乙酸-聚賴氨酸(mPEG-PLGA-PLL)為載體,通過聲乳化/溶劑揮發(fā)法制得載順鉑納米粒,然后利用端氨基與重組人表皮因子hrEGF連接,...

2022 05-25

DDP-MnO2-NGO 順鉑修飾二氧化錳納米氧化石墨烯

順鉑(DDP)并經(jīng)二氧化錳(MnO2)修飾的納米氧化石墨烯(NGO)遞CDDP/NGO@MH,并研究其對于逆轉(zhuǎn)谷胱甘肽(GSH)介導的DDPtumour耐的作用。采用透射電子顯微鏡,原子力顯微鏡及粒度...

2022 05-25

環(huán)氧合修飾載順鉑

環(huán)氧合參與tumour的發(fā)生,及轉(zhuǎn)移,抑制環(huán)氧合可提其他一些抗tumour的抗tumour活性。將環(huán)氧合與順鉑進行化學結(jié)合,獲得低的抗tumour。環(huán)氧合鉑(IV)前體,通過在順鉑氧化物的軸向位置引入...

2022 05-25

PARP-1-DDP 多聚二磷酸腺苷核糖聚合修飾載順鉑

多聚二磷酸腺苷核糖聚合(PARP-1)4-氨基-1,8-萘二胺(4-AN)修飾順鉑,應用MTT法和克隆形成試驗檢測4-AN與順鉑聯(lián)合作用對A549的作用;應用單凝膠電泳和微核試驗檢測4-AN與順鉑聯(lián)合...

2022 05-25

6MP-DDP 介孔二氧化硅6巰基嘌呤修飾順鉑

納米的介孔二氧化硅6巰基嘌呤(6MP)修飾順鉑(DDP)的納米遞送體系(MSNS6MP/DDP)。在介孔二氧化硅上修飾巰基,通過二硫鍵連接6MP形成連接6MP的介孔二氧化硅納米粒(MSNS6MP),在...

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