光刻膠按照應用領域劃分，主要可分為PCB、面板、半導體三類，每一類光刻膠又有各自細分品類。其中半導體光刻膠技術門檻，按照光源波長的從大到小，可分為紫外寬譜(300-450nm)、g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)、EUV(13.5nm)等主要品類，每一種品類的組分、適用的IC制程技術節(jié)點也不盡相同。

中文名稱：丙烯酸1-乙基環(huán)戊酯

英文名稱：2-Propenoic acid, 1-ethylcyclopentyl ester

CAS號：326925-69-3

分子量：168.23284

密度：0.96

沸點：206℃

分子式：C10H16O2

熔點：N/A

MSDS：N/A

閃點：75℃

ma-N 2400系列 負性光刻膠

mr-EBL 6000系列 負性光刻膠

XR-1541電子束光刻膠  負性光刻膠

SU-8系列 負性光刻膠

SU-8 2000系列 負性光刻膠

SU-8 3000系列 負性光刻膠

SU-8 TF 6000系列 負性光刻膠

光刻膠AR-N 4340

光刻膠AR-N 4400

光刻膠AR-N 7700

光刻膠AR-N 7720

光刻膠AR-P 6510

光刻膠AR-N 4400

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