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RIE-10NR日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備PX 2752
LT-400G過(guò)程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專(zhuān)用PX 2965
EIS-200ERPELIONIX離子束刻蝕機(jī)PX 1638
VP-RS20等離子體刻蝕機(jī)PX 4660
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機(jī)PX 3030
Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVDPX 3686
Semi-KLEEN Sapphire藍(lán)寶石等離子體清洗機(jī)PX 4028
PLUTO-E100科研型等離子體干法刻蝕(ICP/CCP)系統(tǒng)PX 4983
GIGAbatch批量晶圓處理等離子系統(tǒng)PX 1950
森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200PX 1907
CGST3100全自動(dòng)干法去膠機(jī)PX 1900
Plasmalab 133牛津儀器 RIE 半導(dǎo)體刻蝕機(jī)PX 8288
SPB5/plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PX 4533
TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)PX 3163
PLASMA大氣常壓等離子處理機(jī)器PX 1954
FPTOR-RIE600W反應(yīng)離子刻蝕機(jī)系統(tǒng)PX 3194
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠(yuǎn)程等離子源PX 2226
離子污染測(cè)定儀PX 2333
Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 80PX 2752
EIS-1500ELIONIX 離子束刻蝕機(jī)PX 1638
SENTECH SI 591等離子刻蝕機(jī)PX 1638
SENTECH 集群系統(tǒng)SENTECH等離子刻蝕 集群系統(tǒng)PX 1638
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 1638
VP-RS15等離子刻蝕機(jī)PX 4660
PICO德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)PX 3686
FEMTO德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)PX 3686
Atto德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)PX 3686
ZEPTO德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)PX 3686
Tergeo桌面等離子清洗機(jī)PX 4028
SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機(jī)PX 4028
Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機(jī)PX 4028
EM-KLEEN等離子體清洗機(jī)PX 4028
Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機(jī)PX 4028
Tergeo-Pro桌面等離子清洗機(jī)PX 4028
Tergeo-Plus桌面等離子清洗機(jī)PX 4028
TEM cube多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室PX 4028
TEM 樣品架真空泵站PX 4028
Ion Source離子源PX 4028
Gas Mixers氣體混配器PX 4028
cmvacICP等離子刻蝕機(jī) 干法刻蝕設(shè)備PX 0
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
ELIONIX離子束刻蝕機(jī)
ELIONIX 離子束刻蝕機(jī)
等離子刻蝕機(jī)
SENTECH等離子刻蝕 集群系統(tǒng)
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
Ion Source離子源
Gas Mixers氣體混配器
TEM cube多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
過(guò)程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專(zhuān)用
等離子體刻蝕機(jī)
Tergeo桌面等離子清洗機(jī)
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