反應離子刻蝕機主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕，包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。

產(chǎn)品詳情：

1.氣體種類：O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3等

2.基片尺寸：zui大支持8英寸，并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片

3.射頻電源     ICP電源：13.56MHz，1400W; 偏壓電源：13.56MHz，800W

4.工藝溫度：10℃到80℃可控

5.傳送模式：自動Loadlock傳送系統(tǒng)

       成都超邁光電科技有限公司，為國家標準擬定單位、創(chuàng)新型中小企業(yè)、省專精特新企業(yè)、新經(jīng)濟雙百企業(yè)，已通過GB/T與GJB雙體系認證。

      超邁光電公司致力于真空鍍膜、等離子刻蝕、人工晶體材料和特殊裝備的技術(shù)提升，具有全系列涂層服務(wù)裝備和檢測手段，已申請國家zhuanli60余項，軟件著作權(quán)50余項，擬定國家標準2項，行業(yè)標準1項，為中國物理學會固體缺陷專家委員單位，全國電熱裝備標準化委員會單位，已形成工業(yè)級、科研級和特殊級三大產(chǎn)品系列，公司在南充高新區(qū)(順慶高新區(qū))建有超邁智能產(chǎn)業(yè)園，一期已完成3.5萬平方米廠房和配套辦公生活設(shè)施建設(shè)，具備強大的研發(fā)和制造能力。