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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)
Vision310等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)--PTI790+系列的
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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)
Vision410等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)--PTI790+系列的
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EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機(jī),緊湊和高性能,使用ECR
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EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束,通過充分利用光束面
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SENTECHSI591緊湊型RIE等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能,是氯基和
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SENTECH集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個(gè)轉(zhuǎn)移室和一個(gè)
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SENTECHSI500CCP系統(tǒng)使用動(dòng)態(tài)溫度控制和氦背冷卻,代表了材料蝕刻
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關(guān)于IonSource離子源等離子離子源LMIS和GFIS是三種常見的離子源類
