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BTF-1200C-S-SL-CVD非氣態(tài)源化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2788
BTF-1200C-II-AS-500A智能型雙溫區(qū)等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2788
BTF-1200C-S-PECVD微型PECVD系統(tǒng)管式爐PX 2788
CY-PECVD100-1200-QCVD化學氣相沉積系統(tǒng)PX 4926
GS-30-700(廣樹)高溫化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3851
Parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備PX 2799
Cluster system等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)PX 2799
Series 2000旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備PX 2799
Series 3000 CR進口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備PX 2799
Series 3000 LV 800/1000派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備PX 2799
Series 3000 LV 600/700派瑞林parylene鍍膜設(shè)備PX 2799
Serie 3000 StandardParylene派瑞林真空鍍膜機PX 2799
Labcoater Series 100Parylene派瑞林鍍膜設(shè)備PX 2799
PVD500沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 3937
DZS500沈陽科儀高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統(tǒng)PX 3937
PLD450沈陽科儀高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 3937
EB700沈陽科儀高真空電子東蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 3937
Automotive Lamp Reflector薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)PX 1950
TurboDisc EPIK 868金屬有機化學氣相沉積MOCVDPX 1950
Propel 300mm GaN金屬化學氣相沉積MOCVDPX 1950
SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統(tǒng)PX 1950
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVDPX 1950
PlasmaPro 1000等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 100 ICPCVD電感耦合等離子體化學氣相沉積ICPCVDPX 1950
Seehund® A 系列氣相分解金屬沾污收集(VPD)設(shè)備PX 1950
Shale® A 系列8英寸等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備PX 1950
CCS系統(tǒng)化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5+ C化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5 WW C化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX 2800G4-TM化合物半導體沉積系統(tǒng)PX 1950
MOCVD金屬有機源氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
線列式PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Cluster PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積PX 1950
SI 500 DICPECVD 系統(tǒng)PX 1950
PlasmaPro 100 Nano等離子增強化學氣相沉積PX 1950
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導體行業(yè)儀器設(shè)備
卷對卷PECVD石墨烯制備設(shè)備
半導體PECVD設(shè)備氣相沉積系統(tǒng)
單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備系統(tǒng)
卷對卷式太陽能電池片PECVD氣相沉積系統(tǒng)
二氧化硅薄膜沉積等離子增強CVD系統(tǒng)
光學薄膜PECVD等離子增強型CVD系統(tǒng)
PEALD等離子增強原子層沉積系統(tǒng)
三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備系統(tǒng)
等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)
日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設(shè)備
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
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