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晶圓傳輸平臺(tái)是半導(dǎo)體工藝設(shè)備的構(gòu)成部分，主要實(shí)現(xiàn)晶圓在潔凈環(huán)境
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加熱臺(tái)主要用于CY-VTC-600-2HD雙靶、CY-VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
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帶紅外線(xiàn)加熱的臺(tái)式提拉機(jī)旨在盡可能減少操作員的參與，以便微控制
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凈化型勻膠機(jī)廣泛用于半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等，例如對(duì)大型晶圓、芯
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?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺(tái)）
?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺(tái)）配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射
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本產(chǎn)品為桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，設(shè)備安裝有鎢絲籃蒸發(fā)源，可提供*
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本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)
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CY-VTC-3DC是專(zhuān)為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2"射頻等離子磁控濺射系
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