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晶圓厚度測量儀 MX 102-8

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 那諾中國有限公司
  • 品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地 德國
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2025/7/4 15:22:11
  • 訪問次數(shù) 162

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那諾中國有限公司專注于為大中華區(qū)域(包括中國大陸、香港、澳門和中國臺灣)的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產(chǎn)等企業(yè)機構(gòu)提供高性能、高性價比、定制化的薄膜工藝加工設(shè)備及科學(xué)分析檢測儀器。


那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機等)。


那諾中國提供英國KORE基于飛行時間的質(zhì)譜儀,包含飛行時間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)、質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)(PTR)質(zhì)譜儀、電子轟擊電離(EI)質(zhì)譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機,PA-MOCVD,飛行時間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)

晶圓厚度測量儀 MX 102-8適用于 150 - 200 mm硅片的高分辨率厚度與平整度(TTV)測量儀。只需幾秒鐘即可輕松適應(yīng)不同厚度范圍,可集成到自動機器人分揀系統(tǒng)中。適用于研發(fā)、工藝驗證以及厚度和平整度(TTV)的工藝控制。一對電容式傳感器會在每片晶圓上測量四個徑向輪廓(45 度角)。其中一個輪廓包含 200 個局部厚度值,并相對于相鄰輪廓偏移 45 度。配有強大的 MX-NT 操作軟件。

晶圓厚度測量儀 MX 102-8

儀器功能:
晶圓厚度測量儀 MX 102-8基于已有的適用于 150 mm和 200mm晶圓的類似測量設(shè)備,MX 102 能夠生成四個(或八個)徑向剖面圖,每個剖面圖包含數(shù)百個精確的厚度數(shù)據(jù)點。該設(shè)備配備了一對分辨率為 10 納米的電容式傳感器,能夠在數(shù)秒內(nèi)快速適應(yīng)不同的厚度測量范圍。在每次掃描之前,設(shè)備會通過一個經(jīng)過認證的標(biāo)準量塊實現(xiàn)自動重新校準,以確保測量結(jié)果的高度準確性。

多次掃描:
對于眾多應(yīng)用場景而言,標(biāo)準的四次徑向掃描通常已能滿足需求,特別是針對經(jīng)過研磨處理后接近旋轉(zhuǎn)對稱特性的晶圓。從理論角度分析,通過增加掃描次數(shù),可實現(xiàn)對晶圓表面約 50% 區(qū)域的覆蓋。然而,由于晶圓支撐結(jié)構(gòu)的存在,其余部分區(qū)域則會位于支撐點所形成的“遮擋范圍”內(nèi),難以直接進行掃描。

XN-Option:
針對 200 mm晶圓,通過引入一種簡易的附加運動即可有效解決上述問題。在測量周期的第一階段完成后,晶圓將被抬升,并由兩個夾具進行臨時固定,與此同時,晶圓下方的轉(zhuǎn)盤執(zhí)行 45 度旋轉(zhuǎn)操作。隨后,晶圓重新下降至支撐結(jié)構(gòu),并由真空吸盤完成二次夾緊,此時測量周期的第二階段隨即啟動,從而實現(xiàn)對剩余區(qū)域的全面覆蓋。

晶圓厚度測量儀 MX 102-8


MX 102 在分辨率與通量之間實現(xiàn)了優(yōu)化平衡:第二次掃描周期的偏移角度為 22.5 度,從而生成八個交叉掃描剖面,總測量點數(shù)可達約 2400 個或更多。通過簡單的三維圖形化展示,能夠直觀呈現(xiàn)晶圓的整體幾何特性。

晶圓厚度測量儀 MX 102-8

重復(fù)性示例:

晶圓厚度測量儀 MX 102-8


技術(shù)參數(shù):
晶圓直徑:150mm,200mm
準確性:±0.1μm
分辨率:10nm
空間分辨率:1mm
掃描次數(shù):4
軟件:MXNT

相關(guān)產(chǎn)品:
型號MX 102-6MX 102-8MX 1012MX 1018
晶圓尺寸4'', 5'', 6''6'', 8''8'', 12''12'', 18''
準確性±0.1μm±0.1μm±0.1μm±0.3μm
分辨率10nm10nm10nm10nm
空間分辨率1mm1mm1mm1mm
掃描次數(shù)44up to 8up to 8
厚度動態(tài)范圍100 or 350μm100 or 350μm100 or 350μm100 or 350μm
軟件MXNTMXNTMXNTMXNT





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