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CMP
G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運(yùn)用于研發(fā)，操作簡單，成本低。
型號： GNP POLI-... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:21:54 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計特別適合手套...
型號： NANO 36&t... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:20:13 對比

PVD 熱蒸發(fā)薄膜沉積
CMP
GnP POLI-610專為藍(lán)寶石等復(fù)合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設(shè)計。特別是該系統(tǒng)對于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評估和生產(chǎn)前運(yùn)行。
型號： GNP POLI-... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:18:37 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
原子層沉積ALD
用于高級研究的先進(jìn)能力Veeco 是原子層沉積（ALD）系統(tǒng)供應(yīng)商，為研究和工業(yè)提供全面的服務(wù)和多功能的交鑰匙系統(tǒng)，這些系統(tǒng)易于訪問、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且精確到原子尺...
型號： Savannah 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:16:29 對比

原子層沉積 ALD 薄膜沉積
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CEANE... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:14:15 對比

半導(dǎo)體清洗濕法
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:11:54 對比

半導(dǎo)體濕法清洗
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:09:28 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
原子層沉積ALD
Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設(shè)計，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境中實(shí)現(xiàn)高吞吐量和最長的正常運(yùn)行時間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix&...
型號： Phoenix 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:07:53 對比

原子層沉積 ALD 薄膜沉積
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:06:03 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
分子束外延MBE
GEN2000® MBE 系統(tǒng)提供吞吐量、更長的活動周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 HBT 和 pHEMT 等無線通信設(shè)備大批量生產(chǎn)以及...
型號： GEN2000 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:04:12 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
CMP
GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發(fā)，也為先進(jìn)晶圓制造商和耗材供應(yīng)商設(shè)計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應(yīng)商，襯...
型號： GNP POLI系... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:01:43 對比

半導(dǎo)體化學(xué)機(jī)械拋光濕法
分子束外延MBE
Veeco 的 GEN200® MBE 系統(tǒng)是當(dāng)今市場上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產(chǎn) MBE 系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、VCSEL 和 H...
型號： GEN200 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:59:28 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
分子束外延MBE
Veeco 的 GEN20™ MBE 系統(tǒng)是一種超靈活的工具，其設(shè)計可針對 III-V 族和新興材料進(jìn)行配置，包括需要集成電子束技術(shù)的應(yīng)用。該系統(tǒng)采...
型號： GEN20 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:57:40 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
分子束外延MBE
屢獲殊榮的新型 GENxcel™ 系統(tǒng)是在 GENxplor 的基礎(chǔ)上進(jìn)行的擴(kuò)展，GENxplor™ 是自 2013 年 8 月推出以來...
型號： GENxcel R... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:56:06 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
分子束外延MBE
GEN10™ MBE 系統(tǒng)是成熟平臺中經(jīng)濟(jì)、最靈活的簇狀工具系統(tǒng)，允許多達(dá)三個可配置的、特定于材料的生長模塊。這使得系統(tǒng)利用率高，允許多個研究人員同...
型號： GEN10 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:54:01 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
MBE分子束外延系統(tǒng)
GENxplor® R&D MBE系統(tǒng)獲得了化合物半導(dǎo)體制造的CSindustry獎，采用Veeco成熟的3英寸生長室設(shè)計，并具工藝靈活性，非常適合U...
型號： GENxplor ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:51:47 對比

分子束 MBE 薄膜沉積
全自動CMP晶圓清洗一體機(jī)
韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機(jī)是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機(jī)器。
型號： GNP GPC-3... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:50:12 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
濕法勻膠工作臺
Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預(yù)算。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓，以實(shí)現(xiàn)最大的經(jīng)濟(jì)...
型號： WS-1000MH 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:48:29 對比

半導(dǎo)體前道勻膠機(jī)
濕法勻膠工作臺
Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺的配置和測試模塊建造和運(yùn)輸安裝時間短。易于裝載和操作，所有物品都讓操作員方便地觸及。
型號： WS-1000 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:46:28 對比

半導(dǎo)體前道勻膠機(jī)
晶圓濕法清洗工作臺
WaferStorm平臺是先進(jìn)封裝、MEMS、射頻、數(shù)據(jù)存儲和光子學(xué)市場中許多關(guān)鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個版本——手動加載（ML）和 3300 系列...
型號： 3300系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:44:48 對比

晶圓清洗清洗設(shè)備

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