實驗室小型濺射儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備,結(jié)合磁控濺射技術(shù),適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域的薄膜制備。配備實時反饋機制,可精確調(diào)節(jié)濺射功率,確保鍍膜過程的穩(wěn)定性?。支持旋轉(zhuǎn)和高度調(diào)節(jié)功能,使薄膜沉積更均勻,尤其適用于多樣品批量處理?。預(yù)濺射階段可自動擋板,避免雜質(zhì)污染樣品,提升薄膜質(zhì)量?。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)濺射和沉積功率,優(yōu)化薄膜厚度與附著力?。是實驗室鍍膜研究的理想選擇?。