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1200系列六溫區(qū)真空回轉(zhuǎn)爐主要適用于中小批量粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面生長，該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料...

碳納米膜制備設備如圖所示，由氣體質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng)，紅外烘干系統(tǒng)等組成。

LFT系列 1600系列立式真空管式爐采用硅鉬棒進行加熱，設計針對于材料在真空或氣氛保護環(huán)境下對材料進行燒結(jié)，溫度可以達1600℃，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，使得殼體表...

CVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，化學氣相沉積設備質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lb...

恒溫電熱鼓風干燥箱 箱體內(nèi)均采用鏡面不銹鋼或拉絲板材料氬弧焊制作而成，箱體外采用優(yōu)質(zhì)鋼板材料，造型美觀、新穎。1.采用具有控溫保護、帶有定時功能的數(shù)字顯示微電腦...

LFT1700C系列高溫真空管式爐如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用1800型真空成型高純氧化鋁聚輕材料，加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅鉬棒。

IFVM-1250真空箱式爐，真空氣氛箱式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可用于特殊...

化學氣相沉積設備描述：CVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重10...

立式雙工位石英真空封管機系統(tǒng)主要用于實現(xiàn)樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機、氫氧機、分子泵系統(tǒng)、石英管、連接接頭等組成、標準化定制石...

感應區(qū)域熔爐系統(tǒng)可調(diào)角度工位。石英玻璃管與感應線圈采用整體式設計,底部安裝電動機械機構(gòu)。

四工位封管系統(tǒng)主機含分子泵機組由使用封口機和高真空系統(tǒng)組成。此結(jié)構(gòu)為立式結(jié)構(gòu)，石英管垂直固定，上端為動密封固定，上端固定裝置與下端支撐裝置為連軸聯(lián)動設計，上下可...

供氣系統(tǒng)是一款2路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜最大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可...

開啟式真空管式爐紅外熱循環(huán)試驗機設備為1200℃開啟式真空管式爐，不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。爐管工件為單端封口石英管，紅外燈管環(huán)形分布于爐膛四周，升降溫...

等離子清洗機等離子技術(shù)為表面清洗、食品和醫(yī)療器械的消毒提供了一種新手段，也帶來了許多新用途。

大口徑高溫高壓芯片退火管式爐設備用于較大尺寸（最大尺寸為8英寸）襯底退火處理，設備采用電阻絲為加熱元件，保溫材料為氧化鋁纖維爐膛真空吸附成型，電阻絲為內(nèi)嵌式一體...

LFM系列 1600系列真空氣氛箱式爐 特點：爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計進入爐內(nèi)，并有多處洗爐膛進氣口、出氣口有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、...

LFM系列 1200系列真空氣氛箱式爐主要特點：系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結(jié)等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱...

主要特點：井式坩堝爐此設備是集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，最高發(fā)熱溫度可達1200℃。采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，配...

LFT系列單溫區(qū)回轉(zhuǎn)真空管式爐該設備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面生長，該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體，爐膛使用高純氧化鋁纖維材料...

LFT1200C小型真空管式爐* 主要行業(yè)有稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造等行業(yè)進行真空燒結(jié)、氣氛保護燒結(jié)、真空...