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ZnO納米材料生長設備，由氣體流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng)，紅外烘干系統(tǒng)組成。

高溫熱處理設備是一款小型混合箱式/管式爐，作為單純的箱式爐可對樣品在空氣環(huán)境下進行熱處理，作為管式爐可對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理

鋰電負極設備集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空吸附成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。

LFT1400C-II高溫高壓管式爐現(xiàn)貨，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。

真空氣氛箱式爐 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結(jié)等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程...

LFT1400C-II高溫高壓管式爐廠家，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。

LMF系列真空氣氛箱式爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁纖維材料，采用進口合金電阻絲為加熱元件。是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工...

1700系列單溫區(qū)真空提拉爐設備為真空或者氣氛保護條件下的晶體生長設備，樣品處理位于剛玉管內(nèi)，剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過壓縮波紋管和真空旋轉(zhuǎn)接頭與電機...

金屬管回轉(zhuǎn)爐LFT1200C800D200IIR設備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長。該旋轉(zhuǎn)管式爐，具備在持續(xù)通入氣體的條件下，爐...

滑軌爐如圖所示,由開啟式真空管式爐根據(jù)特殊工藝要求而設計的，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。

煅燒爐LFT1200C Ф40如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅碳棒。

四溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐LFT1200C1600D100IV-R設備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長，該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐...

單溫區(qū)立式滑軌爐設計為立式結(jié)構(gòu)，爐體可電動滑動。預升溫的管式爐可快速移動到樣品區(qū)，實現(xiàn)樣品快速升溫反應。也可程序控制升溫，實驗擴張性好。反應氣體自上而下，爐管下...

大口徑封管機LQS01 D56/58設備主要用于實現(xiàn)樣品的無氧無水真空密封保存，整套系統(tǒng)由封管機、氫氧焰機及真空系統(tǒng)（客戶自備）等組成。該設備在真空條件下將石英...

單工位封管機,工位立式真空封管機主要特點：1、石英管與內(nèi)置石英柱高溫熔接，標準化處理，重復性好。 2、石英管配合動密封系統(tǒng)自動旋轉(zhuǎn)，操作簡單，受熱均勻。3、真空...

1200系列八溫區(qū)真空管式爐LFT1200C2400D200VIII設備主要適用于中小批量材料在高溫條件下熱處理，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體，保溫材料使用高純氧化鋁...

臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK設備設計為高通量實驗使用，設備有8套獨立的溫控系統(tǒng)溝通，8根獨立的石英管可同時參試8組不同實驗，...

此井式坩堝爐設備是集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，最高發(fā)熱溫度可達1200℃。采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，配有風冷系統(tǒng)...

該設備為1400系列雙溫區(qū)立式管式爐，可兩段獨立控溫。根據(jù)實驗需求可得到兩段不同的溫場，也可得到超長恒溫區(qū)。

預加熱石英管真空封口系統(tǒng)主要用于實現(xiàn)樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管系統(tǒng)、真空泵系統(tǒng)、分子泵系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、氫氧機等組成，標準化定制...