1800度500克真空感應(yīng)熔煉爐 參考價(jià)：160000
1800度500克真空感應(yīng)熔煉爐廣泛應(yīng)用于大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下晶體的生長
1700度25公斤真空感應(yīng)熔煉爐 參考價(jià)：180000
1700度25公斤真空感應(yīng)熔煉爐廣泛應(yīng)用于大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料（如 不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉...
2200度300g真空懸浮熔煉爐 參考價(jià)：180000
2200度300g真空懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強(qiáng)大的交變磁場中，利用感應(yīng)渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化，依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產(chǎn)生密切接...
鎳鈷合金中頻感應(yīng)熔煉爐 參考價(jià)：180000
鎳鈷合金中頻感應(yīng)熔煉爐功能全 面、熔煉快速、使用方便、節(jié)能環(huán)保，非常適合實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行金屬樣品研究。廣泛應(yīng)用于大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料（...
1800度1Kg真空感應(yīng)熔煉爐 參考價(jià)：80000
1800度1Kg真空感應(yīng)熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應(yīng)用廣泛的設(shè)備之一。它可以在真空環(huán)境下熔煉這些金屬，去除其中的雜質(zhì)，生產(chǎn)出高純金屬
2000℃15kw真空感應(yīng)熔煉爐 參考價(jià)：60000
2000℃15kw真空感應(yīng)熔煉爐熔煉快速、使用方便、節(jié)能環(huán)保，非常適合實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行小劑量的金屬樣品研究。
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：250000
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計(jì)，腔體空間大，可拓展性強(qiáng)，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺，可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或...
桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：90000
本產(chǎn)品為桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀 參考價(jià)：90000
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
小型電動升降樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：90000
小型電動升降樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀為桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，設(shè)備安裝有鎢絲籃蒸發(fā)源，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍...
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：250000
多源真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：90000
小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。
桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：100000
桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅?..
高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：250000
高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學(xué)元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：120000
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)...
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：200000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
本設(shè)備為帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：220000
粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備，利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：350000
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控濺射...
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：120000
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強(qiáng)離子化效率，從...
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，...
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：350000
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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