三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備 參考價：60000
三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備由等離子發(fā)生器，三溫區(qū)管式爐、射頻電源、真空系統(tǒng)組成。等離子增強CVD系統(tǒng)為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的...
PECVD氣相沉積 參考價：60000
PECVD氣相沉積（等離子體增強化學氣相沉積）是一種化學氣相沉積技術，在材料科學、半導體制造等眾多領域有廣泛的應用。
CVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：60000
CVD化學氣相沉積系統(tǒng)廣泛應用于材料科學和工程領域，用于制備各種功能性薄膜，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。它在半導體、光電子、能源、生物醫(yī)學等...
等離子增強化學氣相沉積設備 參考價：60000
等離子增強化學氣相沉積設備采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等...
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