真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：189000
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個(gè)靶）、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。磁...
小型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：100000
小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選...
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價(jià)：212100
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W的直流電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻） 參考價(jià)：168000
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價(jià)：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價(jià)：260000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價(jià)：198000
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀） 參考價(jià)：235000
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚儀）是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍...
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 參考價(jià)：198000
三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配源功率從500W-1000W不等的射頻電源。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價(jià)：210000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源功率從500W-1000W不等。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻) 參考價(jià)：290000
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：280000
非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。磁控濺射鍍膜儀將所有元件集成到一層立式機(jī)柜中，包括射頻...
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專(zhuān)用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過(guò)程，擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄...
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
UPS三靶磁控濺射鍍膜機(jī) 參考價(jià)：250000
UPS三靶磁控濺射鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的高性價(jià)比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導(dǎo)電膜，合金膜，半導(dǎo)體...
磁控濺射真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
磁控濺射真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時(shí)又可利用...
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀 參考價(jià)：350000
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2“目標(biāo)源，例如，一個(gè)直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個(gè)射頻源用于涂覆非金屬材料。高真空磁控等離子濺射鍍膜...
四探針磁控濺射薄膜厚度測(cè)試儀 參考價(jià)：10000
四探針磁控濺射薄膜厚度測(cè)試儀用于半導(dǎo)體、薄膜、導(dǎo)電涂層等材料的電學(xué)性能測(cè)試。四探針薄膜厚度測(cè)試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，從而獲得更準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：350000
離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源，兩臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：250000
?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)...
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：280000
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
臺(tái)式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：49800
臺(tái)式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。本型號(hào)配備射頻電源，尤其適合非...
臺(tái)式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
臺(tái)式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀是專(zhuān)為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2“射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價(jià)比*高的鍍膜機(jī) . 直...
往復(fù)樣品臺(tái)單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：38000
往復(fù)樣品臺(tái)單靶磁控鍍膜儀是一款緊湊高效的實(shí)驗(yàn)室級(jí)鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)，可在真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)金屬、合金、氧化物等多種材料的均勻鍍膜。桌面型單靶磁控鍍膜儀小型化...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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