桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀 參考價：58900
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源，可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設(shè)...
桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀 參考價：32500
本設(shè)備為桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速...
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：210000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：356000
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：159800
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價：298000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制 參考價：198000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價：156200
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種的物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從而實...
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 參考價：185000
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從而實...
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：380000
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀 參考價：458000
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進行薄膜沉積的高精度設(shè)備.其核心原理是通過在真空環(huán)境下，利用高能離子轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射出來并沉積在基片表...
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：59000
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體 參考價：89000
本設(shè)備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價：195600
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導(dǎo)電性、耐腐蝕性等新功能。
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：169800
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等
分體式單靶磁控鍍膜儀 參考價：269500
本設(shè)備為分體式單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備。
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 參考價：389500
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：259800
雙靶磁控濺射鍍膜儀采用靶下置樣品臺在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個靶位，直流射頻雙電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜...
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀 參考價：198000
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，尤其是實驗室SEM樣品制備，?雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉(zhuǎn)加熱樣...
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 參考價：158000
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
磁控濺射系統(tǒng) 參考價：390000
磁控濺射系統(tǒng)主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構(gòu)、抽氣及真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成。此外,CY-in-line磁控濺射升級后，可...
單室磁控濺射鍍膜儀 參考價：210000
單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。磁控濺射鍍膜儀可廣泛應(yīng)用于大專院校、...
高真空磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。真空磁控濺射鍍膜儀廣泛應(yīng)用于科...
可程控磁控濺射鍍膜儀 參考價：265000
可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量、水冷卻及...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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