在真空環(huán)境下對高速等離子體鍍層過程反射率的實時監(jiān)測是光譜學測量的一項應(yīng)用。

Avantes對在真空環(huán)境下測量有著豐富的經(jīng)驗，并提供各種儀器和配件以滿足真空光譜學的需要。這些技術(shù)經(jīng)常用于點檢測等復(fù)雜的過程控制監(jiān)控?？梢詫σ粋€峰值或一定的波長范圍進行監(jiān)測，以檢測出一個在過程結(jié)束時光譜偏移帶來的拐點。在進行高真空(~10-3 torr)和超高真空(~10−9 torr)測量時，需要特別注意所選用的光譜儀和光纖。Avantes對在真空環(huán)境下測量有著豐富的經(jīng)驗，并提供各種儀器和配件以滿足真空光譜學的需要。