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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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負(fù)膠顯影液PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯） 簡(jiǎn)單介紹：負(fù)膠顯影液PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯）作為負(fù)膠顯影工藝中的關(guān)鍵溶劑，在微電子制造中發(fā)揮著重要作用。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-08-05 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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238正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨 簡(jiǎn)單介紹：正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨 能選擇性地溶解未曝光的光刻膠，留下已曝光部分形成所需的圖形，從而將掩膜版上的圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片等襯底材料上。同時(shí)，它還可用于硅片的濕法刻蝕，對(duì)硅等材料進(jìn)行腐蝕加工，制作微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）結(jié)構(gòu)，如加速度計(jì)、壓力傳感器等。 產(chǎn)品型號(hào)：238 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-08-05 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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200KPMMA 聚甲基丙烯酸甲酯 簡(jiǎn)單介紹：PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯 是一種用途廣泛的聚合物，適用于多種成像和非成像微電子應(yīng)用。它常被用作電子束直寫、X 射線和深紫外光刻工藝中的高分辨率正性光刻膠，也可用作晶圓減薄的保護(hù)涂層、鍵合粘合劑以及犧牲層。 產(chǎn)品型號(hào)：200K 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-08-05 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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184PDMS預(yù)聚物聚二甲硅氧烷與固化劑套件 簡(jiǎn)單介紹：PDMS預(yù)聚物聚二甲硅氧烷與固化劑套件。型號(hào):184，品牌:道康寧，產(chǎn)地:美國(guó)，成分PDMS 和固化劑，混合比例:10:1。 產(chǎn)品型號(hào)：184 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-08-05 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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硅片、單晶硅 簡(jiǎn)單介紹：硅片、單晶硅，用于工藝等同步輻射樣品載體、PVD/CVD鍍膜做襯底、磁控濺射生長(zhǎng)樣品、XRD、SEM、原子力紅外光譜、熒光光譜等分析測(cè)試基底、分子束外延生長(zhǎng)的基底、X射線分析晶體半導(dǎo)體光刻 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-07-29 |
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