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主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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238正膠顯影液TMAH  四甲基氫氧化銨
238正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨
簡單介紹:正膠顯影液TMAH 四甲基氫氧化銨 能選擇性地溶解未曝光的光刻膠,留下已曝光部分形成所需的圖形,從而將掩膜版上的圖案精確轉移到硅片等襯底材料上。同時,它還可用于硅片的濕法刻蝕,對硅等材料進行腐蝕加工,制作微機電系統(tǒng)(MEMS)結構,如加速度計、壓力傳感器等。
產(chǎn)品型號:238   所在地:武漢市   更新時間:2025-08-05
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