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Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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上海伯東是德國(guó) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 比利時(shí) Europlasma 等離子表面處理機(jī) 和美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!




質(zhì)譜分析儀,氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門(mén)

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池

上海伯東日本*小型 Hakuto 離子蝕刻機(jī), 適用于科研院所, 實(shí)驗(yàn)室研究, 干式制程的微細(xì)加工裝置, 特別適用于磁性材料, 金, 鉑及各種合金的銑削加工.

 Hakuto 離子蝕刻機(jī)主要優(yōu)點(diǎn)
1. 干式制程的微細(xì)加工裝置, 使得在薄膜磁頭, 半導(dǎo)體元件, MR sensor 等領(lǐng)域的開(kāi)發(fā)研究及量產(chǎn)得以廣泛應(yīng)用.
2. 物理蝕刻的特性, 無(wú)論使用什么材料都可以用來(lái)加工, 所以各種領(lǐng)域都可以被廣泛應(yīng)用.
3. 配置使用美國(guó)考夫曼離子源
4. 射頻角度可以任意調(diào)整, 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀.
5. 基板直接加裝在直接冷卻裝置上, 所以可以在低溫環(huán)境下蝕刻.
6. 配置公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)傳輸機(jī)構(gòu), 使得被蝕刻物可以得到比較均勻平滑的表面.
7. 機(jī)臺(tái)設(shè)計(jì)使用自動(dòng)化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生產(chǎn)過(guò)程.

 

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE 技術(shù)規(guī)格:

真空腔

1 set, 主體不銹鋼,水冷

基片尺寸

1 set, 4”/6”? Stage, 直接冷卻,

離子源

? 8cm 考夫曼離子源 KDC75

離子束入射角

0 Degree~± 90 Degree

極限真空

≦1x10-4 Pa

刻蝕性能

一致性: ≤±5% across 4”

 

Hakuto 離子蝕刻機(jī) IBE 通不同氣體的蝕刻速率:



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