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高真空磁控離子濺射儀是一種利用磁控濺射技術(shù)在高真空環(huán)境下沉積薄膜的精密設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、材料科學(xué)、電子器件等領(lǐng)域。
高真空磁控離子濺射儀設(shè)備由哪些部件組成？
1.真空系統(tǒng)
機械泵：用于初級抽氣，快速將腔體抽至低真空。
分子泵：在機械泵預(yù)抽后，進(jìn)一步將真空度提升至高真空范圍。
真空室：密封的腔體，容納靶材、樣品和濺射過程，通常采用不銹鋼或鋁合金材料。
真空規(guī)：用于實時監(jiān)測真空度，包括熱偶規(guī)（測量低真空）和電離規(guī)（測量高真空）。
閥門與管路：控制氣體進(jìn)出，包括氣動閥門、電磁閥等。
2.磁控濺射系統(tǒng)
靶材與靶架：
靶材：金屬或合金靶，根據(jù)需求更換。
靶架：固定靶材，部分設(shè)計支持水冷或旋轉(zhuǎn)，以延長靶材壽命。
磁鐵組件：
永磁或電磁線圈：產(chǎn)生閉合磁場，約束電子運動，提高濺射效率。
磁場分布：通過調(diào)整磁鐵強度或位置，優(yōu)化靶材表面的等離子體分布。
陰極電源：提供直流（DC）或射頻（RF）功率，驅(qū)動靶材表面發(fā)生濺射。
3.樣品臺與基片處理
樣品臺：
可旋轉(zhuǎn)、傾斜或加熱，確保薄膜均勻沉積。
部分設(shè)備支持多樣品同時處理或基片加熱。
基片預(yù)處理：
等離子清洗：通過輝光放電清除基片表面污染物，增強膜層附著力。
偏壓電源：對基片施加負(fù)偏壓，吸引離子轟擊表面，改善薄膜致密性。
4.氣體控制系統(tǒng)
工作氣體：
氬氣（Ar）：主要用于濺射金屬靶材，產(chǎn)生惰性等離子體。
反應(yīng)氣體（可選）：如氧氣、氮氣、甲烷等，用于反應(yīng)濺射制備化合物薄膜（如氧化物、氮化物）。
質(zhì)量流量計：精確控制氣體流量，保持氣壓穩(wěn)定。
進(jìn)氣閥與排氣閥：調(diào)節(jié)腔體內(nèi)氣體壓力。
5.控制系統(tǒng)與軟件
觸摸屏或電腦界面：實時監(jiān)控和設(shè)置參數(shù)（如功率、氣壓、時間、溫度等）。
自動化程序：預(yù)設(shè)濺射流程，支持多步工藝（如預(yù)濺射、鍍膜、退火等）。
數(shù)據(jù)記錄：存儲工藝參數(shù)和運行日志，便于追溯和分析。
6.輔助系統(tǒng)
冷卻系統(tǒng)：循環(huán)水冷卻靶材、樣品臺和腔體，防止過熱損壞設(shè)備。
安全保護(hù)：
過壓保護(hù)、漏電保護(hù)、緊急停機按鈕等。
真空失效報警和自動充氮保護(hù)（防止腔體氧化）。
觀察窗：配備石英觀察窗，方便實時觀察濺射過程。
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