BY-1363 CHO-JJ-9中國倉鼠卵巢細(xì)胞系
- 公司名稱 上海乾思生物科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 BY-1363
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/7/29 13:47:52
- 訪問次數(shù) 246
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細(xì)胞株和菌株、胎牛血清、標(biāo)準(zhǔn)品和對照品、生化試劑、ELISA試劑盒、抗體和抗原、細(xì)胞因子、技術(shù)服務(wù)、實驗耗材和消耗品、儀器設(shè)備。
供貨周期 | 現(xiàn)貨 |
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來源與篩選:該細(xì)胞系以 CHO-K1 為親本,通過亞硝ji胍化學(xué)誘變結(jié)合表觀遺傳表型篩選獲得。經(jīng)多輪單克隆純化,挑選出第 9 株組蛋白修飾譜改變zui顯著的克?。ā癑J-9” 標(biāo)識誘變批次與克隆編號)。篩選過程未引入基因編輯,僅通過檢測組蛋白修飾整體水平(如乙酰化、甲基化總含量)確定陽性克隆,全基因組測序顯示與親本相似度>99.5%,確保遺傳背景的穩(wěn)定性。
形態(tài)與增殖:體外培養(yǎng)呈上皮樣形態(tài),貼壁生長時細(xì)胞鋪展均勻,較野生型 CHO 稍大且邊界清晰;因染色質(zhì)功能異常,懸浮培養(yǎng)易聚集成團(直徑 50-100μm),故主要以貼壁方式培養(yǎng)。37℃、5% CO?條件下,增殖周期約 36-42 小時,較野生型延長 6-8 小時,適應(yīng)含 10% 胎牛血清的 DMEM/F12 培養(yǎng)基,傳代 60 次以上組蛋白修飾異常表型穩(wěn)定(整體波動<8%),凍存復(fù)蘇后存活率超 84%。
功能特征:核心優(yōu)勢在于組蛋白修飾的廣泛性改變:整體組蛋白乙?;捷^野生型升高 25%,甲基化水平降低 18%,導(dǎo)致全基因組染色質(zhì)開放度顯著變化(ATAC-seq 顯示 18% 的基因組區(qū)域可及性改變),其中增強子區(qū)域開放度差異最tu出(上調(diào)區(qū)域占 12%,下調(diào)區(qū)域占 15%)。ChIP-seq 驗證顯示,多個組蛋白修飾(如 H3K4me3、H3K27ac)的分布模式改變,使涉及細(xì)胞代謝、應(yīng)激響應(yīng)的 843 個基因表達量出現(xiàn) 2-5 倍差異,模擬了復(fù)雜表觀遺傳擾動下的基因調(diào)控表型。
泛表觀遺傳調(diào)控機制研究
染色質(zhì)整體動態(tài)分析
廣譜表觀遺傳藥物篩選
貼壁培養(yǎng)操作:
復(fù)蘇:從液氮取出凍存管,37℃水浴 1-2 分鐘解凍,轉(zhuǎn)移至含 10mL 預(yù)熱培養(yǎng)基(DMEM/F12+10% 胎牛血清)的離心管,1000rpm 離心 5 分鐘,重懸后接種至 T75 培養(yǎng)瓶,37℃、5% CO?培養(yǎng)箱靜置培養(yǎng)。
換液:接種 24 小時后首ci換液,去除未貼壁細(xì)胞,此后每 48 小時換液一次,維持細(xì)胞融合度<70% 以保證表觀遺傳狀態(tài)穩(wěn)定。
傳代:當(dāng)細(xì)胞融合度達 60%-70% 時,棄培養(yǎng)基,PBS 清洗 2 次,加入 2mL 細(xì)胞解離液,37℃孵育 3-4 分鐘,鏡檢細(xì)胞脫落后加入 8mL 培養(yǎng)基終止解離,按 1:4 比例傳代,避免過度密集導(dǎo)致修飾表型漂移。
組蛋白修飾檢測:
蛋白提取:取 5×10?個細(xì)胞,用組蛋白提取試劑盒分離純化組蛋白,BCA 法定量后調(diào)整濃度至 1μg/μL。
修飾分析:通過 Western blot 檢測總組蛋白乙?;?、甲基化水平(選用泛特異性抗體),或采用質(zhì)譜分析定量多種修飾類型,建議每 15 代檢測一次以驗證表型穩(wěn)定性。
凍存流程:取對數(shù)生長期細(xì)胞,1000rpm 離心 5 分鐘,用凍存液(70% wan全培養(yǎng)基 + 20% 胎牛血清 + 10% DMSO)重懸至 5×10?個 /mL,分裝至凍存管,程序降溫盒 - 80℃過夜,次日轉(zhuǎn)移至液氮保存,保存期可達 5 年以上,復(fù)蘇后需傳代 2-3 次再進行表觀遺傳相關(guān)實驗(確保修飾狀態(tài)穩(wěn)定)。
優(yōu)勢:組蛋白修飾改變范圍廣,可模擬復(fù)雜表觀遺傳擾動;表型穩(wěn)定,傳代 60 次整體修飾水平波動<8%;無外源基因整合,保留天然表觀遺傳互作網(wǎng)絡(luò);適合多靶點藥物篩選,檢測效率較單一修飾模型提升 40%。
局限性:修飾改變的復(fù)雜性使單一調(diào)控機制解析難度增加(需結(jié)合單修飾模型驗證);貼壁依賴性強,懸浮培養(yǎng)會導(dǎo)致修飾譜改變(約 12%);部分實驗需配套多組學(xué)數(shù)據(jù)分析,技術(shù)門檻較高。
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