鍍膜按類(lèi)型劃分，首先可以分為：干式鍍膜和濕式鍍膜兩種。

其中干式鍍膜主要有：真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、真空離子鍍膜3種

真空蒸發(fā)鍍膜可細(xì)分為：

電阻蒸發(fā)鍍膜（適用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料，如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等）

電子束蒸發(fā)鍍膜（可蒸發(fā)難熔金屬，如鉬、鎢、鍺、二氧化硅、氧化鋁等）

高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍膜（蒸發(fā)速率達(dá)，蒸發(fā)源溫度穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單，對(duì)材料純度要求較寬。）

電弧加熱蒸發(fā)鍍膜（特別適用于熔點(diǎn)高，同時(shí)具有一定導(dǎo)電性的材料，如石墨；裝置簡(jiǎn)單，較廉價(jià)，缺點(diǎn)是放電產(chǎn)生的微米級(jí)顆粒會(huì)影響膜的一致性）

激光束蒸發(fā)鍍膜（可蒸發(fā)任何高熔點(diǎn)材料）

反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜（蒸鍍難熔化合物，如氟化鎂、氧化鋇、氧化錫等）

濺射鍍膜可分為：

直流二極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜

直流三極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜

直流四極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜

射頻濺射：采用射頻電源，可鍍氧化硅，氧化鋁材料

對(duì)向靶濺射：可提高沉積速率，制取磁性鐵、鎳和其他磁性合金膜

離子束（IBS）濺射：利用離子源發(fā)出離子

磁控濺射：在直流二極濺射的基礎(chǔ)上，在靶材后面安放了磁鋼，使用弧光發(fā)電，用于蒸發(fā)源。

真空離子鍍膜可分為：

陰極電弧離子鍍：提高了沉積速率和膜的質(zhì)量；還可生成致密均勻，附著力優(yōu)良的化合物膜

空心陰極離子鍍：使用空心陰極等離子電子束

多弧離子鍍

濕式鍍膜可分四種：

電鍍

陽(yáng)極氧化

化學(xué)鍍

化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理