在微納加工領域，傳統(tǒng)光刻技術常受限于超凈環(huán)境與特定光刻膠材料。

天恒科儀推出一款小型通用手動對準和曝光系統(tǒng)，使準直機(aligner)的應用領域不再局限于微電子和傳統(tǒng)光刻膠?？梢灾苯釉诟鞣N有機物上，例如：PMMA、ABS或其他有機材料上進行光刻，成為MEMS、微流控、生物工程和生命科學等研究領域的理想工具。

憑借光源技術與極簡操作為實驗室和小型生產環(huán)境提供一種易于使用的高精度光刻解決方案。

核心技術亮點

一、材料兼容性革命
搭載專有紫外光源（172nm/222nm/308）突破傳統(tǒng)光刻工藝限制。

可直接在PMMA、ABS、PDMS、纖維素酯（CA/CAB） 等有機材料表面實現高精度圖形化，無需預先涂覆光刻膠。

二、極簡操作流程
桌面式設計（205×230×400mm）與模塊化結構，無需超凈環(huán)境，開機即用。系統(tǒng)內置精密機械結構，長期免維護校準，顯著降低使用門檻。

三、雙模式曝光
支持軟接觸/硬接觸兩種曝光模式，適配不同材質需求，確保圖形轉移一致性

詳細參數配置

對準裝置核心部件是自動調節(jié)的z-stage，確保樣品與掩膜表面緊密對接，從而提升分辨率并減少缺陷。

采用手動調節(jié)位移臺和自調平chuck盤以及配備可調節(jié)的數碼電子顯微鏡，使操作更加簡單并加快對準速度。

同時系統(tǒng)還配備壓縮空氣和真空供應，對樣品進行吸附固定以及實現實驗樣品與掩膜版的緊密接觸，便于更加準確高效的完成對準操作。

典型應用場景

應用領域:

科研原型驗證：

MEMS/生物芯片/光學元件

半導體行業(yè)：

微流控、生物芯片、光學器件

材料研究：

材料表面改性研究

產品亮點

高分辨率對準和曝光系統(tǒng)：

? 小型、桌面式經典設計、高精度、高穩(wěn)定性、操作方便

? 擴展光刻膠和襯底的材料范圍，打破傳統(tǒng)光刻工藝的限制

? 一致的、高質量的曝光結果，零培訓、0基礎即可操作

?無需超凈間、任何地點都可以光刻；低功耗、可選電池供電

?搭建即可運行，牢固的機械結構和光學器件，無需額外維護和校準