Holmarc 的離子交換器是一種專用設(shè)備,用于將基片浸入熱室中的熔體中形成薄膜。加熱器的溫度可以控制和固定,最高可達環(huán)境溫度 400°C。速度、持續(xù)時間等由計算機控制精確保持。移動由精密伺服/步進電機控制的線性平臺實現(xiàn)。
系統(tǒng)的前面板帶有鍵盤和 LCD 顯示屏,使用方便。也可通過電腦進行控制。浸漬持續(xù)時間、浸漬速度、退出速度等都是可編程功能。
伺服電機(可選)用作執(zhí)行器,可實現(xiàn)無振動浸漬和退出。該設(shè)備采用臺式設(shè)計和制造,整個電子設(shè)備和伺服電機都安裝在一個緊湊的裝置中。在實驗過程中,基片支架的高度可根據(jù)溶液水平進行調(diào)整。
規(guī)格
執(zhí)行器:步進電機(可選伺服電機)
驅(qū)動機構(gòu):精密滾珠絲杠
速度控制:可選
電源輸入:230 伏,50 赫茲
電腦連接:串行端口(RS 232)
最大行程:150 毫米
最小牽引速度: 2 微米/秒
最大拉伸速度:9000 微米/秒
相關(guān)產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。