WH91單鐵基分體涂層測(cè)厚儀校準(zhǔn)方法

為使測(cè)量準(zhǔn)確，應(yīng)在測(cè)量場(chǎng)所對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)。

　　1 校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片(包括箔和基體)

　　已知厚度的箔或已知覆蓋層厚度的試樣均可作為校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片。簡(jiǎn)稱標(biāo)準(zhǔn)片。

　　a) 校準(zhǔn)箔

　　對(duì)于磁性方法， “箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片。對(duì)于渦流方法，通常采用塑料箔。 “箔”有利于曲面上的校準(zhǔn)，而且比用有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片更合適。

　　b) 有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片

　　采用已知厚度的、均勻的、并與基體牢固結(jié)合的覆蓋層作為標(biāo)準(zhǔn)片。對(duì)于磁性方法，覆蓋層是非磁性的。對(duì)于渦流方法，覆蓋層是非導(dǎo)電的。

　　2 基體

　　a)對(duì)于磁性方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的磁性和表面粗糙度，應(yīng)當(dāng)與待測(cè)試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與待測(cè)試件基體金屬的電性質(zhì)相似。為了證實(shí)標(biāo)準(zhǔn)片的適用性，可用標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬與待測(cè)試件基體金屬上所測(cè)得的讀數(shù)進(jìn)行比較。

　　b) 如果待測(cè)試件的金屬基體厚度沒有超過表一中所規(guī)定的臨界厚度，可采用下面兩種方法進(jìn)行校準(zhǔn)：

　　1) 在與待測(cè)試件的金屬基體厚度相同的金屬標(biāo)準(zhǔn)片上校準(zhǔn);

　　2) 用一足夠厚度的，電學(xué)性質(zhì)相似的金屬襯墊金屬標(biāo)準(zhǔn)片或試件，但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無間隙。對(duì)兩面有覆蓋層的試件，不能采用襯墊法。

　　c) 如果待測(cè)覆蓋層的曲率已達(dá)到不能在平面上校準(zhǔn)，則有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片的曲率或置于校準(zhǔn)箔下的基體金屬的曲率，應(yīng)與試樣的曲率相同。

　　3 校準(zhǔn)方法

　　本儀器有三種測(cè)量中使用校準(zhǔn)方法: 零點(diǎn)校準(zhǔn)、二點(diǎn)校準(zhǔn)，還有一種針對(duì)測(cè)量頭的六點(diǎn)修正校準(zhǔn)。本儀器的校準(zhǔn)方法是非常簡(jiǎn)單的。

　　3.1 零點(diǎn)校準(zhǔn)

　　a) 在基體上進(jìn)行一次測(cè)量，屏幕顯示<×.×μm>。

　　b) 按 ZERO 鍵，屏顯<0.0>。校準(zhǔn)已完成，可以開始測(cè)量了。

　　c) 重復(fù)上述 a、b 步驟可獲得更為的零點(diǎn)，高測(cè)量精度。零點(diǎn)校準(zhǔn)完成后就可進(jìn)行測(cè)量了。注：本儀器提供負(fù)數(shù)顯示，為用戶更方便的選擇零點(diǎn)。

　　3.2 二點(diǎn)校準(zhǔn)

　　這一校準(zhǔn)法適用于高精度測(cè)量及小工件、淬火鋼、合金鋼。

　　a) 先校零點(diǎn)(如上述)。

　　b) 在厚度大致等于預(yù)計(jì)的待測(cè)覆蓋層厚度的標(biāo)準(zhǔn)片上進(jìn)行一次測(cè)量，屏幕顯示<×××μm>。

　　c) 用▲、▲、鍵修正讀數(shù)，使其達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)值。校準(zhǔn)已完成，可以開始測(cè)量。

　　注：在儀器校準(zhǔn)時(shí)，單次按將跳動(dòng)一個(gè)數(shù)，長按不松開，將連續(xù)跳動(dòng)要修正的值。

　　4 六點(diǎn)修正校準(zhǔn)

　　在下述情況下，改變基本校準(zhǔn)是有必要的:

　　測(cè)量頭頂端被磨損、新?lián)Q的測(cè)量頭、特殊的用途。

　　在測(cè)量中，如果誤差明顯地超出給定范圍，則應(yīng)對(duì)測(cè)量頭的特性重新進(jìn)行校準(zhǔn)稱為基本校準(zhǔn)。通過輸入 6 個(gè)校準(zhǔn)值(1 個(gè)零和 5 個(gè)厚度值)，可重新校準(zhǔn)測(cè)量頭，具體操作方法如下：

　　a) 在儀器開啟的狀態(tài)下，按順序連續(xù)、快速按下以下按鈕，即可進(jìn)入六點(diǎn)修正校準(zhǔn);

　　b)先校零值。在六點(diǎn)修正校準(zhǔn)界面的個(gè)界面，測(cè)一下沒有任何涂層的基體，然后按 ZERO 鍵，屏幕中的 ADJ 顯示 0.0μm，按 進(jìn)入下一點(diǎn)的校準(zhǔn);

　　c)校準(zhǔn)儀器自帶校準(zhǔn)片，把 50μm 的放到基體上，測(cè)一下 50μm 的厚度，測(cè)出來的(ADJ)數(shù)與校準(zhǔn)片的值不符按?8?0 ?8?1調(diào)整到與校準(zhǔn)片的值一樣(如50μm 測(cè)出來是 54μm 按?8?1調(diào)整到 50μm)， 然后按 進(jìn)入下一點(diǎn)校準(zhǔn),接著用相同的校準(zhǔn)方法依次校準(zhǔn) 100μm、250μm、500μm、1000μm 校準(zhǔn)膜片;

　　d)6 點(diǎn)數(shù)據(jù)調(diào)整完之后，會(huì)出現(xiàn)對(duì)話框詢問是否保存，按 確認(rèn)保存;

　　e)若使用其他膜片標(biāo)準(zhǔn)，須按厚度增加的順序，一個(gè)厚度上可做多次。每個(gè)厚度應(yīng)至少是上一個(gè)厚度的 1.6 倍以上，理想情況是 2 倍。例如: 50、100、250、500、1000μm。值應(yīng)該接近但低于測(cè)量頭的測(cè)量范圍;

　　注意: 每個(gè)厚度應(yīng)至少是上一個(gè)厚度的 1.6 倍以上，否則視為基本校準(zhǔn)失敗，后面一個(gè)點(diǎn)必須大于 500μm