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激光粒度測(cè)試儀是一種性能優(yōu)良的粒度分布儀，它采用進(jìn)口的半導(dǎo)體激光器，功率大、壽命長(zhǎng)、單色性好；采用專門設(shè)計(jì)的由大規(guī)模集成電路工藝制造的大尺寸高靈敏度光電探測(cè)器陣列；采用蠕動(dòng)循環(huán)泵和微量樣品池兩種進(jìn)樣方式；采用全程米氏理論和多種分布模型的數(shù)據(jù)處理方式；采用高精度的數(shù)據(jù)傳輸與處理電路等一系列先進(jìn)的技術(shù)和制造工藝，使該儀器具有準(zhǔn)確可靠、測(cè)試速度快、重復(fù)性好、操作簡(jiǎn)便等突出特點(diǎn)，是集激光技術(shù)、計(jì)算機(jī)技術(shù)、光電子技術(shù)于一體的新一代粒度測(cè)試儀器。
激光粒度測(cè)試儀的測(cè)量原理：
當(dāng)光束前進(jìn)過(guò)程中遇到顆粒時(shí)，將發(fā)生散射現(xiàn)象，散射光與光束初始傳播方向形成一個(gè)夾角θ，散射角的大小與顆粒的粒徑相關(guān)，顆粒越大，產(chǎn)生的散射光的θ角就越小;顆粒越小，產(chǎn)生的散射光的θ角就越大。這樣，測(cè)量不同角度上的散射光的強(qiáng)度，就可以得到樣品的粒度分布了。
隨著粉體技術(shù)的發(fā)展，對(duì)粒度分析儀的性能要求在逐步的提高，特別是粒度儀的量程要求越來(lái)越寬。測(cè)量下限要求達(dá)到幾百甚至幾十個(gè)納米，測(cè)量上限要求達(dá)到一千甚至幾千微米。這對(duì)新型激光粒度測(cè)試儀設(shè)計(jì)者提出了極大的挑戰(zhàn)。
顆粒越細(xì)，散射光的角度越小，微小顆粒的散射光甚至在360度范圍內(nèi)都有分布。為了拓展儀器的測(cè)量下限。需要有非常規(guī)的光學(xué)設(shè)計(jì)。顆粒越小，分布在360度空間范圍的散射光光強(qiáng)差越小，當(dāng)顆粒小到一定極限，光強(qiáng)差將小得幾乎難以被分辨出來(lái)。這時(shí)就到了激光粒度測(cè)試儀的測(cè)量下限了。光學(xué)設(shè)計(jì)上的障礙和散射光本身的特性決定了常規(guī)激光粒度測(cè)試儀的測(cè)量下限一般在0.02微米左右。當(dāng)顆粒較大時(shí)，同樣也會(huì)遇到技術(shù)困難。大顆粒的散射角度很小，不容易分辨和測(cè)量。要想有效分辨大顆粒的光強(qiáng)分布。可以簡(jiǎn)單的拉長(zhǎng)聚焦鏡頭的焦距(例如500甚至1000毫米以上)，但是焦距大將導(dǎo)致激光粒度測(cè)試儀的體積大幅增加，且非常不便于小顆粒的大角度散射光探測(cè)。同時(shí)對(duì)鏡頭的加工精度要求也會(huì)更高。這個(gè)技術(shù)難點(diǎn)使得常規(guī)設(shè)計(jì)的激光粒度測(cè)試儀的真實(shí)測(cè)量上限很難超過(guò)1200微米。
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